[发明专利]光敏组合物清除液

说明书

技术领域

本发明涉及一种光敏组合物清除液。更确切地说，本发明涉及一种用于除去涂覆在基片周围、边缘或背面上的未固化的光敏组合物膜，或用于在玻璃基片、半导体晶片等上形成光敏组合物膜的步骤中除去粘附在设备元件或设备表面上的未固化的光敏组合物的清除溶液。

本发明的光敏组合物清除液特别适用于除去遗留在基片周围、边缘或背面上的未固化的含颜料光敏组合物膜，或在生产用于液晶设备或有机EL设备和图像传感器的滤色片期间，在基片上形成光敏组合物膜的步骤中用于除去粘附在设备元件或设备表面上的未固化的含颜料光敏组合物。

背景技术

利用平版印刷技术形成光敏组合物图案通常在生产平板显示器如液晶、有机ELs、等离子显示器和半导体的步骤中进行。

在生产用于液晶设备或有机EL设备、图像传感器等的滤色片的过程中，RGB或形成树脂黑色矩阵图案的方法包括颜料分散法、染色法、印刷法和电镀法。颜料分散法通过利用含颜料的光敏组合物进行平版印刷实现了不同色彩的图案化，而且由于形成了稳定的着色膜，所以是生产滤色片的合适方法。当通过此类方法在基片上形成光敏组合物时，其中的一种方法包括将含颜料的光敏组合物施加到基片上，其中这种施加通过公知方法完成，例如旋涂、狭缝式涂布、绕线棒控涂布、辊涂、浸涂、喷涂或它们的组合。

对于旋涂，通常要进行清洗处理，也就是用光敏组合物清除液清洗边缘或背面，以便在涂覆光敏组合物后除去基片周围和边缘上多余部分的光敏组合物膜，或者除去基片背面上的光敏组合物。光敏组合物的除去还可以用光敏组合物清除液以杯洗的方式进行，这是除去在旋涂中弹着在涂布器杯中的光敏组合物的步骤。

除旋涂之外，用于生产滤色片的光敏组合物施加方法包括利用狭缝式涂布器、绕线棒控涂布器、辊涂器施加光敏组合物，但是这些方法要求在施加光敏组合物后，除去粘附在所有或部分施加设备(如狭缝喷嘴或绕线棒)上的不必要的光敏组合物。

另外，在某些情况下，光敏组合物还必须从施加装置的构件如输送光敏组合物的导管上除去。这种光敏组合物的清除通常通过用清除液进行清洁处理实现。

在除去粘附在基片或设备上的光敏组合物的任何步骤中，残留的光敏组合物组分都会引起问题。用于生产滤色片的含颜料光敏组合物，即用于形成RGB的着色光阻或用于树脂黑色矩阵形成的黑色光阻，存在着容易在基片或设备表面上遗留颜料组分残余物的趋势，而且即使少量的残余物也产生导致滤色片生产期间缺陷增多的污染，或者可潜在地恶化色彩纯度或降低滤色片的对比度。近年来对用于彩色显示器中所用的滤色片的要求不断提高，要求必须具有大图面面板、高精度和低成本，使得避免光敏组合物组分残留变得越来越重要，因为残留组分影响滤色片的性能和收率。

最常用的光敏组合物清除剂是乙二醇醚或它们的酯，或其混合物(例如，参见日本审定专利公开No.4-49938和日本未审定专利公开No.7-146562)，但是当它们是为了清除上述着色光阻而施加时，光阻除去性能是不足的，必须使用大量的清除液，而且产生清除残留物。

通过采用用于光敏组合物的溶剂组分或光敏组合物中的组分如表面活性剂或分散剂(例如，见日本未审定专利公开No.2000-273370)的方法也能够实现对含颜料着色组合物的清除。但是，当仅仅光敏组合物中的溶剂组分用作清洁剂时，颜料趋于沉淀而且不能获得充分的清洁能力。当光敏组合物中的组分如表面活性剂或分散剂包括在清洁流体组合物时，这些组分存在着作为汽化残余物保留在基片或装置构件上的趋势，因此需要进一步清洁的步骤，同时在不期望汽化残余物的情况下，所述方法实际上对从基片边缘或背面上清除光敏组合物没有作用。

发明公开

本发明的目的是提供一种具有优异的光敏组合物清除性能的光敏组合物清除液。

具体地，本发明提供一种清除液，其能有效地清除在液晶设备或有机EL设备、图像传感器等的生产期间在基片上形成光敏组合物膜的步骤中遗留在基片周边缘或背面的含颜料光敏组合物膜，或除去粘附在装置构件或设备表面上的含颜料的光敏组合物。

在本说明书中，亚烷基二醇单烷基醚可称为“组分1”，芳烃可称为“组分2”，选自亚烷基二醇单烷基醚羧酸酯、烷氧基羧酸酯、脂环族酮和乙酸酯的一种或多种溶剂可称为“组分3”。

为了解决上述问题，本发明人进行了广泛而深入的研究。结果发现，利用具有特殊组成的清除液可增强清洁移除含颜料的光敏组合物的能力，而且在此发现基础上完成了本发明。

具体地，本发明例如包括以下方面。