[发明专利]用于基于全局优化的无掩模光刻光栅化技术的方法和系统

权利要求书

1.一种用于确定光刻系统中的空间光调制器SLM像素的状态的方法，所述光刻系统被配置用于印刷所需图案，所述方法包括：

确定与将要由光刻系统印刷的图案的理想掩模相关联的衍射级；以及

对SLM像素的状态进行配置以匹配与所需图案有关的已确定衍射级。

2.根据权利要求1的方法，其中所述衍射级表示与所述SLM像素相关联的特征。

3.根据权利要求1的方法，其中所述像素状态被配置用于实质上匹配所需衍射图案。

4.根据权利要求3的方法，其中所述匹配发生在所述光刻系统的扩展投影光学器件PO内部。

5.根据权利要求4的方法，其中所述确定包括描述所述PO内部的光瞳场的非线性表达。

6.根据权利要求4的方法，其中所述确定包括线性灰色调近似。

7.根据权利要求6的方法，其中所述灰色调近似是像素状态参数的函数。

8.根据权利要求1的方法，其中所述配置对与SLM的调制特征相关联的约束进行补偿。

9.根据权利要求1的方法，其中所述衍射级是PO数值孔径、扩展光瞳的坐标、以及照射波长的函数。

10.一种执行光刻系统中作为理想掩模光瞳的函数的空间光调制器SLM像素的光学光栅化的方法，用于对所需图案进行光栅化和分解，所述方法包括：

产生与基本物体相对应的光瞳场衍射级，所述基本物体与所需图案相关联：

确定针对全部SLM像素的灰色调，以便在光刻系统的基本光瞳内最优地近似所产生的衍射级；以及

选择每一个像素的状态以对指定给像素的相应灰色调进行仿真。

11.根据权利要求10的方法，其中所述选择包括：(i)确定所述灰色调的复数值分布；以及(ii)确定灰色调矩阵值，以通过所述基本光瞳将所述灰色调的复数值分布映射到光瞳场中。

12.根据权利要求10的方法，其中所述基本物体包括多边形的组合。

13.根据权利要求10的方法，其中所述确定包括复数值技术的操作。

14.根据权利要求10的方法，其中所述状态包括来自包括倾斜角和电压值组成的组中的至少一个。

15.一种用于确定光刻系统中的空间调制器SLM像素状态的设备，所述光刻系统被配置用于印刷所需图案，包括：

用于确定与将要由光刻系统印刷的图案的理想掩模相关联的衍射级的装置；以及

用于对SLM像素的状态进行配置以匹配与所需图案有关的已确定衍射级的装置。

16.根据权利要求15的设备，其中所述衍射级表示与所述SLM像素相关联的特征。

17.根据权利要求15的设备，其中所述像素状态被配置用于实质上匹配所需衍射图案。

18.根据权利要求17的设备，其中所述匹配发生在所述光刻系统的扩展投影光学器件PO内部。

19.根据权利要求18的设备，其中所述确定包括描述所述PO内部的光瞳场的非线性表达。

20.根据权利要求18的设备，其中所述确定包括线性灰色调近似。

21.一种用于执行光刻系统中作为理想掩模光瞳的函数的空间光调制器SLM像素的光学光栅化的设备，用于对所需图案进行光栅化和分解，所述设备包括：

用于产生与基本物体相对应的光瞳场衍射级的装置，所述基本物体与所需图案相关联：

用于确定针对全部SLM像素的灰色调的装置，以便在光刻系统的基本光瞳内最优地近似所产生的衍射级；以及

用于选择每一个像素的状态以对指定给像素的相应灰色调进行仿真的装置。

22.一种计算机可读介质，用于承载由一个或更多处理器执行的一个或更多指令的一个或更多序列，用于执行确定光刻系统中的空间光调制器SLM像素的状态的方法，所述光刻系统被配置用于印刷所需图案，当由一个或更多处理器执行所述指令时，引起所述一个或更多处理器执行以下步骤：

确定与将要由光刻系统印刷的图案的理想掩模相关联的衍射级；以及

对SLM像素的状态进行配置以匹配与所需图案有关的已确定衍射级。