[发明专利]经表面处理的形状记忆材料及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200680002225.4 申请日: 2006-01-11
公开(公告)号: CN101128224A 公开(公告)日: 2008-02-20
发明(设计)人: 张文智;杨伟国;吕维加;潘伟业;朱剑豪 申请(专利权)人: 港大科桥有限公司;香港城市大学
主分类号: A61L27/04 分类号: A61L27/04;C23C14/48
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘冬;李炳爱
地址: 中国香港*** 国省代码: 中国香港;81
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 表面 处理 形状 记忆 材料 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种改变镍钛合金部分表面组成以增加其生物相容性的方法,该方法包括通过等离子浸没离子注入法或沉积法,或离子束浸没法或注入法在所述镍钛合金部分的表面上注入氮、氧或碳。

2.权利要求1的方法,其中所述镍钛合金是形状记忆合金,且含有约20%至80%的镍和80%至20%的钛。

3.权利要求1的方法,其中所述成分的表面注入增强所述合金的机械性能。

4.权利要求3的方法,其中所述表面机械性能包括亲水性、耐腐蚀性和耐磨性。

5.权利要求2的方法,其中所述镍钛合金的生物活性可被减小或增强。

6.权利要求2的方法,其中所述等离子浸没离子注入和沉积法或者相关的基于离子束和等离子的技术,例如等离子增强的气相沉积法(PECVD)、物理气相沉积法(VPD)和化学气相沉积法(CVD),可减少、终止或防止有害离子从所述形状记忆材料的基底释放。

7.权利要求2的方法,其中所述材料是用于整形外科、泌尿科、血管外科、肝胆外科或食管外科的生物材料。

8.权利要求6的方法,其中用于所述材料表面处理的各类方法的能量如下:沉积法为1eV到1keV,注入和沉积法为500eV到100keV,束流离子注入法为500eV到10MeV。

9.权利要求6的方法,其中所述材料的表面处理的能量如下:沉积法为1eV到500eV,注入和沉积法为500eV到1000eV,束流离子注入法为1000到1000MeV。

10.权利要求6的方法,其中使用直流电,参数为“无限”脉冲持续时间的0Hz重复到5000Hz。

11.权利要求2的方法,其中所述被注入的材料为氮源、碳源或氧源。

12.权利要求10的方法,其中所述氮源为氮气。

13.权利要求10的方法,其中所述碳源为乙炔或其衍生物。

14.权利要求10的方法,其中所述氧源为氧气。

15.根据权利要求1的方法制造出的整形外科植入物。

16.根据权利要求1的方法制造出的血管植入物。

17.根据权利要求1的方法制造出的食管植入物。

18.权利要求10的方法,其中所述成分可以是气体、液体、固体形式或其组合物。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于港大科桥有限公司;香港城市大学,未经港大科桥有限公司;香港城市大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200680002225.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top