[发明专利]用于优化的写入策略控制的设备和方法

权利要求书

1、具有优化的写入策略控制的光学记录设备(1)，该设备包括：

-辐射源(6)，其用于发射辐射光束以便在可记录介质(11)上记录光学效应，其中所述辐射光束是根据包括一个或多个写入参数的写入策略(40，43)而被发射的；

-读取单元(7)，其用于读取所记录的效应以便提供读取信号，该读取信号(20)包括从具有第一宽度(211)的第一区域反射的第一部分(21)以及从具有第二宽度(221)的第二区域反射的第二部分(22)，其中从第一区域到第二区域的过渡被标记为前沿(23)，并且从第二区域到第一区域的过渡被标记为后沿(24)，

其中，在所述读取信号中确定前沿和/或后沿的平均过渡偏移，并且在前馈优化处理中优化所述写入策略(40，43)中的所述一个或多个写入参数的至少其中之一，该前馈优化处理把所述平均过渡偏移(30)纳入考虑。

2、根据权利要求1的设备，其中，在可记录介质上记录光学效应序列，在所述记录处理的第一部分期间读取该序列的第一部分，并且从该序列的该第一部分获得所述读取信号，并且在所述优化处理中优化所述写入策略，在该记录处理的第二部分中使用所述经过优化的写入策略。

3、根据权利要求1的设备，其中，作为在特定过渡之前的该区域的宽度和/或后面的区域的宽度的函数来确定所述平均过渡偏移。

4、根据权利要求1的设备，其中，所述一个或多个写入参数包括功率电平和/或电平持续时间。

5、根据权利要求1的设备，其中，所述一个或多个写入参数包括所述辐射光束中的写入脉冲的定时，所述定时是相对于系统时钟获得的。

6、根据权利要求1的设备，还包括处理装置，其用于评估所述平均过渡偏移以及根据规则优化所述写入策略中的所述一个或多个写入参数的至少其中之一。

7、用于控制光学记录设备的集成电路(IC)，所述IC适于根据所测量的读取信号的特定类型的前沿和/或后沿的所述平均过渡偏移来优化写入策略中的一个或多个写入参数，所述写入策略在前馈优化处理中被优化。

8、用于控制光学记录设备的计算机可读代码，该设备被控制成根据所测量的读取信号的特定类型的前沿和/或后沿的所述平均过渡偏移来优化写入策略中的一个或多个写入参数，所述写入策略在前馈优化处理中被优化。

9、优化包括一个或多个写入参数的写入策略的方法，该方法包括以下步骤：

-提供所测量的读取信号(20)，该读取信号包括从具有第一宽度(211)的第一区域反射的第一部分(21)以及从具有第二宽度(221)的第二区域反射的第二部分(22)，其中从第一区域到第二区域的过渡被标记为前沿(23)，并且从第二区域到第一区域的过渡被标记为后沿(24)；

-提供对应于该读取信号的各调制比特；

-通过比较该读取信号的定时与所述各调制比特的定时，确定前沿和/或后沿的平均过渡偏移(30)；

其中，在前馈优化处理中优化所述写入策略(40，43)中的所述一个或多个写入参数的至少其中之一，该前馈优化处理把所述平均过渡偏移纳入考虑。