[发明专利]生产具有纳米多层的光学应用的元件的方法以及按照该方法生产的元件

权利要求书

1.制备具有纳米多层的用于光学应用如具有硬和软x射线的x-射线-光学系统或用于真空-UV-辐射以及用于x射线荧光分析的分析器-多层-光栅以及作为绝缘滤光器用于在不同波长范围辐射的元件的方法，其中该元件是单晶硅，其上纳米多层通过溶胶-凝胶-涂布方法连续施涂的单层而制备，其特征为，多层通过具有每种情况下最低的可能层厚的相同材料的多个连续实现的层结构来实现，其中连续的每个单层通过元件在溶胶-凝胶-池中短时间浸渍或将溶胶-凝胶-溶液喷涂于元件上，随后在预定温度下在空气中通过干燥或退火过程来制备。

2.根据权利要求1制备具有纳米多层的元件的方法，其特征为，在制备单层的浸渍过程中将元件从溶胶-凝胶-溶液中拉出时用的后退速度，不同于在进一步的浸渍过程中的后退速度。

3.根据权利要求1或2的方法，其特征为使用在0.15和6.00cm/min之间的后退速度将元件从溶胶-凝胶-溶液浸渍池中拉出。

4.根据权利要求3的方法，其特征为，使用在0.25和4.14cm/min之间的后退速度将元件从溶胶-凝胶-溶液浸渍池中拉出来。

5.根据权利要求1到4的方法，其特征为，将溶胶-凝胶-溶液的温度调节到约20℃。

6.权利要求1到5的方法，其特征为，单层的干燥或退火过程在相同或不同的温度下进行。

7.根据权利要求6的方法，其特征为，对于干燥或退火过程将温度调节到100℃和500℃之间。

8.根据权利要求7的方法，其特征为，对于干燥或退火过程将温度调节到150℃和400℃之间。

9.根据权利要求1到8的方法，其特征为使用Al₂O₃、TiO₂或SiO₂进行涂布。