[发明专利]热处理装置

权利要求书

1.一种热处理装置，其特征在于，包括：

收纳基板的处理室；

设置在所述处理室的上方、并且分别照射所述基板的多个光源；

内面形成为圆顶状的反射面，反射从所述各个光源发出的光的一部分并导向所述基板的第一反射镜；和

分别设置于所述各个光源，反射并汇聚从各个光源发出的光、导向所述基板的多个第二反射镜，

为了在配设各光源的位置形成第一焦点，并在配设所述基板的一侧形成第二焦点，各第二反射镜的反射面具有围绕该第一焦点的周围的旋转椭圆面的一部分。

2.如权利要求1所述的热处理装置，其特征在于，

第一反射镜的反射面形成为半球状，

所述光源横跨整个第一反射镜而配设在该反射面的外侧。

3.如权利要求1或2所述的热处理装置，其特征在于，

各第二反射镜以相对于所述第一反射镜的光轴调整的倾斜角度而被设置，使得从各个光源发出并且被该反射镜的反射面反射的反射光互不交叉，并且分别照射应处理的基板的表面不同的特定照射区域。

4.如权利要求1或2所述的热处理装置，其特征在于，

所述第一反射镜的反射面形成为半球状，

各第二反射镜的第二焦点与第一反射镜的球心一致。

5.如权利要求1或2所述的热处理装置，其特征在于，

以所需光源数量为n、第二反射镜的半径为r的情况下，第一反射镜的半径R以下述式(3)表示：

R=S2π---(3),]]>

其中，S＝nπr²+α，S为所述第一反射镜的表面积，α为修正面积的常数。