[发明专利]检查系统和设备

权利要求书

1.一种用于材料的在线处理的系统，包括具有使用至少一个接触电位差(CPD)传感器的传感器系统和用于接纳材料的材料平台的处理系统，所述材料平台可与材料以及与传感器系统和材料平台通信的定位组件接合，从而所述传感器系统和材料可相对彼此移动；改进包括：

所述传感器系统，具有振动接触电位差(vCPD)传感器模式和非振动接触电位差(nvCPD)传感器模式；

非振动接触电位差探头，被配置为响应于因该非振动接触电位差探头和所述材料的相对运动而产生的接触电位差的改变，产生反映所述材料的特性的相对接触电位差数据；

振动接触电位差探头，被配置为当被放置在材料表面上的至少一点的上方时产生反映所述材料的表面特征的绝对接触电位差值；

计算机系统，与所述接触电位差传感器系统通信，从而相对接触电位差数据和绝对接触电位差数据分别由非振动接触电位差探头和振动接触电位差探头输出到计算机；以及

显示器，提供由所述计算机系统生成的并代表所述绝对和相对接触电位差数据的、反映所述材料上的化学污染物和所述化学污染物的空间分布的可视图像。

2.根据权利要求1的系统，其中，所述相对运动是通过包括一个用于使材料围绕中央主轴旋转，而传感器以变化的半径跟踪多轨道的数据的系统来完成的。

3.根据权利要求1的系统，还包括多个nvCPD传感器。

4.根据权利要求1的系统，其中，所述相对运动是通过包括一个相对于保持静止的材料移动nvCPD传感器的系统而产生的。

5.根据权利要求1的系统，其中，所述相对运动是通过包括一个相对于静止的nvCPD传感器移动材料的系统而产生的。

6.根据权利要求1的系统，其中所述材料包括液晶板。

7.根据权利要求1的系统，其中所述材料包括半导体晶片。

8.根据权利要求1的系统，其中，所述相对CPD数据由计算机系统处理，以自动检测代表在材料表面上存在的化学缺陷或化学非均匀性的图案。

9.根据权利要求1的系统，其中，所述材料表面上的至少一点的位置是由计算机基于所述nvCPD探头生成的数据根据预定的规则自动确定的。

10.根据权利要求1的系统，其中，所述传感器系统包括一个具有振动模式和非振动模式的探头。

11.根据权利要求1的系统，其中，所述传感器系统包括用作非振动接触电位差探头的第一探头和用作振动接触电位差探头的第二探头。

12.根据权利要求1的系统，其中在所述显示器上显示一幅图像，它代表根据对于整个材料的相对CPD数据和对于所述至少一点的绝对CPD数据而建立的、对于整个材料的近似绝对CPD值。

13.一种用于检查样本的表面的分析方法，包括以下步骤：提供包括用于分析缺陷的样本扫描系统的处理系统；把样本固定到所述样本扫描系统的样本平台上；提供具有振动接触电位差(vCPD)传感器模式和非振动接触电位差(nvCPD)传感器模式的接触电位差(CPD)传感器；使一定位机构与nvCPD传感器模式下的CPD传感器通信，从而经由所述定位机构可相对于所述样本平台安放所述CPD传感器；经由相对运动使所述CPD传感器围绕所述样本连续扫描；在至少相对于所述CPD传感器的样本扫描期间，由所述CPD传感器的nvCPD传感器模式生成相对CPD数据，该相对CPD数据代表样本表面；确认样本表面上用于测量绝对CPD的至少一个点；在vCPD传感器模式下将所述CPD传感器放置在所述至少一个点的上方；以及对于所述至少一个点生成绝对CPD数据。

14.根据权利要求13的检查样本的表面的方法，还包括相对于化学信号放大表面形态信号的步骤。

15.根据权利要求13的检查样本的表面的方法，还包括给所述处理系统的CPD传感器或样本加偏压的步骤。

16.根据权利要求15的检查样本的表面的方法，还包括以下步骤：对于所述处理系统的CPD传感器或样本提供两个不同的偏压；以及从在一个偏压下形成的信号中减去在另一个不同的偏压下形成的信号。