[实用新型]电镀液容器无效

专利信息
申请号: 200620176025.8 申请日: 2006-12-27
公开(公告)号: CN200985363Y 公开(公告)日: 2007-12-05
发明(设计)人: 许迪捷 申请(专利权)人: 逢御机械工业有限公司
主分类号: C25D17/02 分类号: C25D17/02
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 代理人: 孙皓晨
地址: 中国*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 电镀 容器
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种用来盛装电镀液的电镀液容器。

背景技术

目前电镀工业随着各种轻重工业而逐渐发达,所谓电镀加工就是一般泛指利用电解还原反应,在物体上镀一层金属薄膜的方法,由于电镀后的物体表面具有保护兼装饰效用,另外也提供其它特性,如高导电性、高度光反射性或机能性等等,所以电镀工业相当受到重视;而电镀加工进行时,是以一可导电的电极棒作为阳极,而施作物通常是作为阴极,当通入电流后,其电镀液会产生金属离子的游离现象,而由电镀液中所流失的金属离子,是由阳极的纯金属析出并补充,其电镀液中的金属离子会游向阴极,并在阴极的施作物上还原后,形成镀着在施作物表面的一层金属保护层。

请参阅图1,为一般电镀液容器的结构示意图,如图中所示,一般电镀加工时,是将一作为阳极的电极棒20,与作为阴极的施作物30,分别放放置在一溶液槽10的两相对侧,再利用一电力供给装置40分别电连接在电极棒20与施作物30,以便通入电流进行加工,由于这种溶液槽10的槽身部101与槽底部102是呈方形,因此,当电镀液50通过管路103输入溶液槽10时,其电镀液50的流动方向会受到溶液槽10内部形状的限制,而发生流动不顺畅的情形,间接影响到电镀的质量;又,当进行溶液槽10的清理时,必须先由槽底部102的排水孔104将电镀液50排出,再进行清洗,以免槽底部102囤积有前次留下来的金属离子,影响下次电镀的质量,但是,呈方形的槽底部102与槽身部101无论在排水或是进行清洗时,都不容易将内部的电镀液50或水分排出,常因为这样的情况影响到下一次电镀的质量,故有必要加以改良。

发明内容

针对现有技术的不足,本实用新型的目的在于:提供一种电镀液容器,使电镀液流动顺畅。

为实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:

一种电镀液容器,供以盛装电镀加工时所使用的一电镀液,其特征在于:其包括:一箱体;以及一溶液槽,组设在所述的箱体内部,所述的溶液槽的一槽身部与一槽底部是呈弧状,并在所述的槽底部形成有复数个排水孔。

较佳的,上述技术方案还可以附加以下技术特征:

所述的箱体上是形成有一排水孔,并利用一管路连接所述的排水孔与所述的溶液槽的所述的排水孔。

所述的溶液槽内是组设有一入液管,以供将所述的电镀液导入所述的溶液槽内。

所述的入液管是与所述的槽底部呈平行设置,并在所述的入液管的两侧,分别成型有复数组相对的出液孔。

所述的槽底部是与所述的排水孔呈倒锥状。

与现有技术相比较,采用上述技术方案的本实用新型具有的优点在于:其主要是在一箱体内是组设有一溶液槽,而此溶液槽的槽身部与槽底部是呈弧状设计,以使电镀液由管路输入时,其电镀液可沿着槽身部与槽底部所形成的弧面,在溶液槽内产生循环流动的液体环流,而能够提升电镀时,电镀液流动顺畅,便于金属离子均匀地施作在施作物上;又,利用呈弧形设计的槽身部与槽底部,在槽底部是形成有一排水孔,不但能够便于将电镀液排出,且以清水清洗时,也可容易将水分排出。

附图说明

图1,为一般电镀液容器的结构示意图;

图2,为本实用新型的结构示意图;

图3,为本实用新型入液时的示意图;

图4,为本实用新型入液时另一视角的示意图;

图5,为本实用新型另一较佳实施例。

附图标记说明:10-溶液槽;101-槽身部;102-槽底部;103-管路;104-排水孔;20-电极棒;30-施作物;40-电力供给装置;50-电镀液;60-电镀液容器;601-箱体;6011-排水孔;602-溶液槽;6021-槽身部;6022-槽底部;6023-排水孔;6024-入液管;60241-出液孔;70-电镀液;80-电极棒;90-施作物。

具体实施方式

请参阅图2,为本实用新型的结构示意图,如图中所示,本实用新型的电镀液容器60是用来组设在一电镀机上,并可供盛装电镀加工时所使用的电镀液70,其主要是包括:

一箱体601,以用来挂设一电极棒80与一施作物90,并在箱体601的周缘构设有相关的零件,如:一些配管等等,在箱体601的一侧有形成有一排水孔6011;以及,

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