[实用新型]一种足底按摩器无效
| 申请号: | 200620140729.X | 申请日: | 2006-12-05 |
| 公开(公告)号: | CN200977259Y | 公开(公告)日: | 2007-11-21 |
| 发明(设计)人: | 宣国建 | 申请(专利权)人: | 宣国建 |
| 主分类号: | A61H7/00 | 分类号: | A61H7/00;A61H9/00 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 315326浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 足底 按摩 | ||
1.一种足底按摩器,包括上盖和以及与所述上盖相盖合的下盖,其特征在于:所述上盖的背面设有水槽,上盖上设有与所述的水槽相连通的进水口;所述下盖的背面设有与用于扣合所述水槽的槽盖,所述的槽盖与所述的水槽围成密闭的水腔;
所述上盖的正面开设有与所述的水槽连通的冒水孔,所述上盖的正面还设有按摩垫,所述的按摩垫围绕所述的冒水孔。
2.如权利要求1所述的足底按摩器,其特征在于:所述上盖的正面上开设有四组冒水孔,每组冒水孔均有按摩垫围绕,每组冒水孔及围绕之的按摩垫组成一个按摩单元,所述上盖的前部分布有两个纵向排列的按摩单元,所述上盖的后部分布有两个纵向排列的按摩单元。
3.如权利要求2所述的足底按摩器,其特征在于:所述的按摩垫上有密集分布有按摩针。
4.如权利要求3所述的足底按摩器,其特征在于:所述的水槽呈X形,所述的四组冒水孔开设于X形的四个顶点处。
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