[实用新型]用于监视激光加工过程的装置和激光加工头

权利要求书

1.用于监视激光加工过程的装置，包括：

——辐射敏感的接收器设备(16、17)，用于检测来自在激光束(13)和工件(21)之间的相互作用区(20)中的辐射，

——至少一个成像装置(11、14、15、18)，该装置将相互作用区(20)中的至少一个待观察区域显示到接收器设备(16、17)上，以及

——分析电路(22)，

其特征在于，

——所述辐射敏感的接收器设备(16、17)包括至少一个辐射敏感的接收器(16)和至少一个照相机(17)，以及

——所述的至少一个辐射敏感的接收器(16)和所述的至少一个照相机(17)的输出信号被同时输送给该分析电路(22)，并且该分析电路处理接收到的接收器设备的输出信号，以在它那方面提供表明激光加工过程的进程特征的输出信号。

2.根据权利要求1的装置，其特征在于，接收器设备包括第一和第二辐射敏感的接收器(16’、16”)，它们具有不同的光谱敏感性。

3.根据权利要求1的装置，其特征在于，该或这些辐射敏感的接收器(16、16’、16”)各包括光电二极管。

4.根据权利要求1的装置，其特征在于，该或这些辐射敏感的接收器(16、16’、16”)包括光电二极管阵列、PSD或CMOS接收器。

5.根据权利要求1的装置，其特征在于，所述的至少一个照相机(17)具有一维或二维的CCD图像传感器。

6.根据权利要求1的装置，其特征在于，至少一个辐射敏感的接收器(16)及/或照相机(17)设置有确定待观察的区域的光阑(19)。

7.根据权利要求6的装置，其特征在于，设置了正或负光阑作为光阑(19)。

8.根据前述权利要求之一的装置，其特征在于，所述至少一个成像装置具有

——为激光束(13)限定工作光路(12)的聚焦光学系统(11)，

——用于将来自在激光束(13)和工件(21)之间的相互作用区(20)中的辐射从工作光路(12)中输出耦合的元件(14)以及

——至少一个用于将被输出耦合的辐射聚焦到所述至少一个辐射敏感的接收器(16)以及接收器设备的所述至少一个照相机(17)上的聚焦光学系统(18)。

9.根据权利要求8的装置，其特征在于，所述至少一个辐射敏感的接收器(16)以及接收器设备的所述至少一个照相机(17)分别配有独特的聚焦光学系统(18)。

10.根据权利要求9的装置，其特征在于，每个辐射敏感的接收器(16’、16”)均配有独特的聚焦光学系统(18’、18”)。

11.根据权利要求8的装置，其特征在于，用于将辐射从工作光路(12)中输出耦合的元件是部分透明的镜(14)，该镜让激光束(13)通过并且将来自与激光束(13)的光谱范围不同的光谱范围中的辐射转向接收器设备的方向中。

12.根据权利要求11的装置，其特征在于，该部分透明的镜(14)是一种二色性的镜。

13.根据权利要求11的装置，其特征在于，来自待观察区域中的辐射的借助镜(14)的转向为90°。

14.根据权利要求8的装置，其特征在于，设有至少一个分光镜(15)，所述分光镜将从工作光路(12)中输出耦合的辐射分离到不同的射束中，这些射束被分别引导到单个的接收器(16)和照相机(17)上。

15.根据权利要求1的装置，其特征在于，照相机(17)具有成像装置，借助所述成像装置照相机直接观察相互作用区(20)的区域。

16.根据权利要求1的装置，其特征在于，处理接收器设备(16、17)的输出信号的分析电路(22)是一种分析电路，其为控制或调节激光束(13)及/或激光加工过程的控制或调节电路(23)提供输出信号。

17.根据权利要求1的装置，其特征在于，处理接收器设备(16、17)的输出信号的分析电路(22)是一种分析电路，其提供输出信号用于监视及/或记录激光加工过程的质量。