[实用新型]具有盖板的等离子处理室及其气体分配板组件

权利要求书

1.一种用于具有盖板的等离子处理室的气体分配板组件，其特征在于，至少包含：

一扩散板，具有一上游侧、一面向处理区的下游侧、及数个气体通道，形成穿过该扩散板；及

一档板，放置于该处理室的盖板与扩散板之间，具有由档板的上表面延伸至下表面的数个孔，其中该数个孔具有至少两种尺寸。

2.如权利要求1所述的用于具有盖板的等离子处理室的气体分配板组件，其特征在于，上述的档板的厚度是于约0.02英寸至约0.2英寸之间。

3.如权利要求1所述的用于具有盖板的等离子处理室的气体分配板组件，其特征在于，上述的档板与扩散板间的距离是低于约0.6英寸。

4.如权利要求1所述的用于具有盖板的等离子处理室的气体分配板组件，其特征在于，上述的档板的数个孔为圆柱形。

5.如权利要求4所述的用于具有盖板的等离子处理室的气体分配板组件，其特征在于，上述的档板的数个圆柱孔的最小直径是低于约0.05英寸，以及，最小直径孔的总剖面积大于1平方英寸。

6.如权利要求5所述的用于具有盖板的等离子处理室的气体分配板组件，其特征在于，上述的最小直径孔的总剖面积大于1平方英寸。

7.如权利要求6所述的用于具有盖板的等离子处理室的气体分配板组件，其特征在于，上述的具有最小直径的数个圆柱孔是由阻断板的中心对称分布至阻断板的边缘。

8.如权利要求4所述的用于具有盖板的等离子处理室的气体分配板组件，其特征在于，上述的档板具有数个圆柱孔，其直径是在约1/16英寸至约1/4英寸之间，以及，这些孔的直径大于数个圆柱孔的最小直径。

9.如权利要求8所述的用于具有盖板的等离子处理室的气体分配板组件，其特征在于，上述的具有直径大于数个圆柱孔的最小直径的数个圆柱孔的数目为至少4。

10.如权利要求8所述的用于具有盖板的等离子处理室的气体分配板组件，其特征在于，上述的具有直径大于数个圆柱孔的最小直径的数个圆柱孔是被对称分布于整个档板上。

11.如权利要求1所述的用于具有盖板的等离子处理室的气体分配板组件，其特征在于，上述的等离子处理室为等离子加强化学气相沉积室。

12.如权利要求1项所述的用于具有盖板的等离子处理室的气体分配板组件，其特征在于，上述的扩散板与档板两者具有大于370mm×370mm的表面积。

13.一种具有盖板的等离子沉积处理室，其特征在于，至少包含：

一扩散板，具有上游侧、面向处理区的下游侧、及数个气体通道形成穿过该扩散板；及

一档板，放置在处理室的盖板与扩散板之间，具有数个圆柱孔由档板的上表面延伸至下表面，其中该数个圆柱孔具有至少两种尺寸，并由档板的中心对称分布至档板的边缘。

14.如权利要求13所述的具有盖板的等离子沉积处理室，其特征在于，上述的档板与扩散板间的空间是低于约0.6英寸。

15.如权利要求13项所述的具有盖板的等离子沉积处理室，其特征在于，上述的档板的数个圆柱孔的最小直径是低于约0.05英寸。

16.如权利要求15所述的具有盖板的等离子沉积处理室，其特征在于，上述的最小直径孔的剖面积是大于1平方英寸。

17.如权利要求16所述的具有盖板的等离子沉积处理室，其特征在于，上述的具有直径大于数个圆柱孔的最小直径的数个圆柱孔是对称分布在整个阻断板上。

18.如权利要求13所述的具有盖板的等离子沉积处理室，其特征在于，上述的扩散板与档板两者具有大于370mm×370mm的表面积。