[实用新型]低辐射自洁玻璃无效

专利信息
申请号: 200620077544.9 申请日: 2006-09-18
公开(公告)号: CN200985312Y 公开(公告)日: 2007-12-05
发明(设计)人: 尚贵才;赵福志;周杰 申请(专利权)人: 福耀玻璃工业集团股份有限公司
主分类号: C03C17/34 分类号: C03C17/34;C03C17/23
代理公司: 厦门市新华专利商标代理有限公司 代理人: 翁素华
地址: 35030*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 辐射 玻璃
【说明书】:

【技术领域】

本实用新型涉及一种低辐射自洁玻璃,属于玻璃镀膜技术领域。

【背景技术】

低辐射玻璃,英文为Low Emissivity Glass,简称为Low-E玻璃。Low-E玻璃是在玻璃表面镀上多层金属或其他化合物组成的膜系产品。该产品对可见光有较高的透射率,对红外线(尤其是中选红外)有很高的反射率,具有良好的隔热性能。根据生产工艺,将其分为离线Low-E玻璃和在线Low-E玻璃。

离线Low-E玻璃是与浮法玻璃生产线分开的,一般采用磁控溅射方法来生产,在玻璃板上依次镀有多层膜层,来实现Low-E效果。其优点为具有最佳的低辐射效果,辐射率值可达到0.05,甚至0.04左右。而在线Low-E的辐射率最低只能0.15左右。相关文献如中国专利申请第96104321.0号,中国专利第200410018113.0号、第200420083199号、第93105250.5号。

在线Low-E玻璃是在浮法玻璃的生产过程中实现的,主要采用化学气相沉积(CVD)法或者高温热解喷涂法。其优点在于膜层与玻璃板之间的附着性强,可以异地运输,可单片使用,也可以进行各种深加工,如钢化、热弯等。

中国专利第01142650.0号公开了一种浮法在线生产低辐射镀膜玻璃的方法,该专利利用CVD法,在热的玻璃表面沉积低辐射膜层,共有2层。第一层为屏蔽层,由掺碳的氧化硅、氧化硼组成;第二层为低辐射层,由掺杂氟、磷的氧化锡、氧化锑组成。

关于自洁玻璃的文献报道比较多。自清洁玻璃,又叫自洁玻璃,目前国内外有多种生产工艺,如溶胶-凝胶工艺、离线磁控溅射或真空沉积工艺、在线CVD(化学气相沉积)、以及各种浸涂、喷涂工艺。

在线自洁玻璃,是在浮法玻璃的生产过程中制造出来的,与离线自洁玻璃相比,在线自洁玻璃具有批量化或产量化的优势,实现了连续化生产,从而提供了生产效率,从另一方面来讲也降低了生产成本。在线自洁玻璃的主要特点为其加工特性,该产品能像普通浮法玻璃一样进行异地运输,也能进行各类深加工操作,如切、磨、中空、钢化、热弯、夹层等。目前国内外制造在线自洁玻璃的技术主要有在线CVD法。

离线自洁玻璃,与在线自洁玻璃相比,没有实现连续化生产,没有与浮法玻璃生产线结合,所以生产效率较低、生产成本偏高。缺点在于膜层在玻璃表面的附着性较差,不能异地化运输和操作,除了进行中空操作外,不能进行其他深加工操作,如热弯、钢化等。像溶胶-凝胶法、磁控溅射法、真空沉积法、喷涂法、浸涂法等都属于离线自洁玻璃的生产方法。

在线CVD法,是通过化学气相沉积CVD法将二氧化钛沉积到热的移动的玻璃板上,而且玻璃板是洁净的,该方法一般位于锡槽内温度为650℃-720℃之间的位置,该方法也充分利用了浮法玻璃生产过程中玻璃板表面的热量,而不需要像溶胶-凝胶法那样重新加热使膜层固化,节省了能源;而且实现了连续化生产。这种方法一般是将液态或者固态的有机金属钛盐通过薄膜蒸发器气化,在氮气等惰性气体的带动下,这样原料在气相状态下通过化学分解而沉积在热的移动的玻璃板表面,形成膜层。利用CVD方法生产自洁玻璃的文献有中国专利申请第03130468.0号、第02815882.2号、第00818185.3号,以及中国专利第00808643.5号、第200480007970.9号、第01802678.8号。

磁控溅射方法,利用现有的磁控溅射镀膜设备,通过将金属钛溅射到玻璃表面,在玻璃表面氧化生成二氧化钛薄膜,使得玻璃表面具有一定的亲水性,而达到自洁效果。利用该方法生成自洁玻璃的文献有中国专利第99815987.5号、第01802678.8号,以及中国专利申请第02805314.1号。

溶胶-凝胶方法,将二氧化钛配制成溶胶,再将玻璃放入该溶胶中浸润提拉的方式而使玻璃板的两个表面涂敷一层均匀自洁膜层,再将玻璃在高温炉内,在超过500℃的温度烧结,几个小时后便可以完成金红石晶型向锐钛晶型的转化。利用该方法制造自洁玻璃的文献有中国专利第02147089.8号,以及中国专利申请第02822422.1号、第03817836.2号。

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