[发明专利]含氨氯地平的粒子及含有其的口腔崩解片无效
| 申请号： | 200610171750.0 | 申请日： | 2006-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN101209245A | 公开（公告）日： | 2008-07-02 |
| 发明（设计）人： | 落合康;信藤友宏;小林浩久 | 申请（专利权）人： | 大日本住友制药株式会社 |
| 主分类号： | A61K9/20 | 分类号： | A61K9/20;A61K31/4422;A61P9/12 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 孙秀武;李平英 |
| 地址： | 日本大阪*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 含氨氯 地平 粒子 含有 口腔 崩解 | ||
1.一种口腔崩解片，该崩解片是含有2～25％(重量/重量)含氨氯地平粒子的口腔崩解片，该含氨氯地平粒子含有氨氯地平或其可药用盐以及连续层形成载体。
2.权利要求1所述的口腔崩解片，其中含氨氯地平粒子是氨氯地平或其可药用盐被含有连续层形成载体的组合物包覆的粒子。
3.权利要求1或2所述的口腔崩解片，其中含氨氯地平粒子还含有表面活性剂。
4.权利要求1～3任一项所述的口腔崩解片，其中连续层形成载体含有水不溶性高分子、肠溶性高分子或它们的混合物。
5.权利要求1～3任一项所述的口腔崩解片，其中连续层形成载体含有肠溶性高分子。
6.权利要求1～5任一项所述的口腔崩解片，其中含氨氯地平粒子中的连续层形成载体的含量为20～50％(重量/重量)。
7.权利要求2～6任一项所述的口腔崩解片，其中含氨氯地平粒子的包覆层为单层。
8.权利要求1～7任一项所述的口腔崩解片，其中含氨氯地平粒子的含量为3～20％(重量/重量)。
9.权利要求1～7任一项所述的口腔崩解片，其中含氨氯地平粒子的含量为5～15％(重量/重量)。
10.权利要求1～9任一项所述的口腔崩解片，其中含氨氯地平粒子的平均粒径为50～200μm。
11.权利要求1～10任一项所述的口腔崩解片，其中连续层形成载体的量是氨氯地平或其可药用盐的量的0.3～1.0重量倍。
12.权利要求1～11任一项所述的口腔崩解片，其中含氨氯地平粒子的平均粒径为175μm以下。
13.一种口腔崩解片，该崩解片是含有含氨氯地平粒子的口腔崩解片，通过注射器上下颠倒法对5片该口腔崩解片进行试验时，37℃下在10ml水中的氨氯地平溶出量为30秒800μg/mL以下，该含氨氯地平粒子含有氨氯地平或其可药用盐，且该含氨氯地平粒子的平均粒径为50-200μm。
14.权利要求1～13任一项所述的口腔崩解片，在日本药局方浆法中，相当于5mg氨氯地平的制剂在水900ml、转数75rpm的条件下，在30分钟时显示70％以上的溶出率。
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