[发明专利]散热型半导体封装件及其所应用的散热结构无效

专利信息
申请号: 200610169987.5 申请日: 2006-12-26
公开(公告)号: CN101211872A 公开(公告)日: 2008-07-02
发明(设计)人: 陈锦德;杨格权;林长甫 申请(专利权)人: 矽品精密工业股份有限公司
主分类号: H01L23/36 分类号: H01L23/36;H01L23/367;H01L23/373
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 程伟;王锦阳
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 散热 半导体 封装 及其 应用 结构
【权利要求书】:

1.一种散热型半导体封装件,包括:

芯片承载件;

半导体芯片,接置并电性连接至该芯片承载件;以及

散热片,间隔一热传导介质材料而接着于该半导体芯片上,其中于该散热片上相对与热传导介质材料接着区域的周围表面形成有凹槽,且该凹槽表面形成有与热传导介质材料湿润效果不佳的阻碍层,以限制该热传导介质材料的湿润区域。

2.根据权利要求1所述的散热型半导体封装件,其中,该芯片承载件为球栅阵列式基板及导线架的其中之一。

3.根据权利要求1所述的散热型半导体封装件,其中,该半导体芯片具有相对的主动面及非主动面,以将其主动面间隔多个导电凸块而接置并电性连接至该芯片承载件,且使该散热件间隔热传导介质材料而接着于该半导体芯片非主动面。

4.根据权利要求1所述的散热型半导体封装件,其中,该散热片材质为金属铜,该热传导介质材料为焊锡材料,该阻碍层为氧化铜。

5.根据权利要求1所述的散热型半导体封装件,其中,该凹槽以雷射烧灼形成。

6.根据权利要求1所述的散热型半导体封装件,其中,该阻碍层为氧化金属层。

7.根据权利要求1所述的散热型半导体封装件,其中,该接着区域的面积可选择等于、小于及大于半导体芯片面积的其中之一。

8.一种散热结构,包括:

散热片,且该散热片预设有接着区,从而间隔一热传导介质材料而接着于半导体芯片上;

凹槽,形成于该散热片上对应于该接着区周围;以及

阻碍层,形成于该凹槽表面,且该阻碍层与该热传导介质材料湿润效果不佳。

9.根据权利要求8所述的散热结构,其中,该散热片材质为金属铜,该热传导介质材料为焊锡材料,该阻碍层为氧化铜。

10.根据权利要求8所述的散热结构,其中,该阻碍层为氧化金属层。

11.根据权利要求8所述的散热结构,其中,该阻碍层为利用雷射烧灼金属材质的散热片所产生于该凹槽表面的氧化金属层。

12.根据权利要求8所述的散热结构,其中,该半导体芯片具有相对的主动面及非主动面,以将其主动面间隔多个导电凸块而接置并电性连接至一芯片承载件,且使该散热件间隔热传导介质材料而接着于该半导体芯片非主动面。

13.根据权利要求8所述的散热结构,其中,该接着区的面积可选择等于、小于及大于半导体芯片面积的其中之一。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于矽品精密工业股份有限公司,未经矽品精密工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200610169987.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top