[发明专利]蓝宝石晶体生长方法无效
申请号: | 200610167773.4 | 申请日: | 2006-12-18 |
公开(公告)号: | CN101205628A | 公开(公告)日: | 2008-06-25 |
发明(设计)人: | 庄育丰 | 申请(专利权)人: | 庄育丰 |
主分类号: | C30B29/20 | 分类号: | C30B29/20;C30B1/00 |
代理公司: | 北京汇泽知识产权代理有限公司 | 代理人: | 程殿军 |
地址: | 中国台湾桃园*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 蓝宝石 晶体生长 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种蓝宝石晶体生长方法,属于单晶蓝宝石(氧化铝单晶)长晶技术领域,
背景技术
目前,单晶蓝宝石基板在现代科技产品的运用十分重要,以光电产业的发光二极管(LED)为例,氮化镓(GaN)的材料研究已超过二十年,但一直因为没有晶格常数配合的基板(Substrate),所以晶体长不好,并且p型氮化镓不易制成,所以进展缓慢,这些问题一直到1983年,日本的田贞史博士(S.Yoshida)等人用氮化铝(AlN)在蓝宝石(Sapphire)基板上先用高温成长做缓冲层,再在其上生长氮化镓时,结晶较好,之后名古屋大学的赤崎勇教授(I.Akasaki)等人发现以有机金属气相沉积法(MOCVD或OMVPE)均匀的在低温(约600℃)长一层薄的氮化铝,再在其上以高温(约1000℃左右)成长氮化镓可以得到像镜面的材料。1991年日亚公司(Nichia Co.)研究员中村修二(S.Nakamura)改用非晶体氮化镓以低温先成长为缓冲层(Buffer Layer),再以高温成长氮化镓时,也得到镜面般平坦的膜。另一个如何做p-GaN的问题也获得突破,1989年赤崎勇教授等人首先将镁(Mg)掺杂在氮化镓里使其成长,长成后进行电子束照射得到p型氮化镓,后来日亚公司的中村修二发现电子束,不过是使氮化镓的温度升高,使Ma-H中的氢分离而镁受子被活性化产生低阻抗的氮化镓,他发现如果以700℃左右的热退火也可将氢赶走,使镁活性化而完成p型的工作。利用以上二个发现,日亚公司1993年宣布成功开发光度一烛光(Cd)的GaN蓝光发光二极管(LED),寿命长达数万小时。此消息发表后,立刻引起全世界的注意,目前全球各地已有很多团体在研究此类材料的制造、性质及应用。以中国台湾专利为例,发明第I245440号名称为发光二极管专利(参照2005年12月11日专利公告),其包含有:一基板;一成核层,设置于该基板上,且是由AlxGa1-xN所形成,以解决晶格不匹配的现象,其中0≤x≤1;一缓冲层,设置于该成核层上;一n型接触层,设置于该缓冲层上,且电性连接于一n型电极,该n型接触层是由n-AlxGa1-xN所形成,其中0≤x≤0.3;一n型被覆层,设置于该n型接触层上,且是由n-AlxGa1-xN所形成,其中0≤x≤0.3;一发光层,设置于该n型披覆层上;一p型阻障层,形成于该发光层上,防止载子溢流,该p型阻障层是由p-AlxGa1-xN所形成,其中0≤x≤0.4;一p型被覆层,形成于该p型阻障层之上,以局限载子,该p型被覆层是由p-AlxGa1-xN所形成,其中0≤x≤0.3;及一p型接触层,是位于该p型被覆层之上,且电性连接于一p型电极,该p型接触层由p-AlxGa1-xN所形成,其中0≤x≤0.15;其中,当于该n型电极与该p型电极施加一适当的顺向偏压时,即可激发该发光层产生波长为300-380奈米的光线输出。而其中该基板是选自由蓝宝石基板、硅基板、碳化硅基板、氮化镓基板、氮化铝基板、氮化铝镓基板及氧化锌基板所成组合之一。而由于蓝宝石基板(氧化铝单晶)的晶格与氮化镓非常接近,是非常适合的基板材料,故蓝宝石基板之长成技术也就格外的重要了。
另外,生产蓝宝石基板主要的关键技术在于2050℃高温中将氧化铝粉末熔化及生长晶体,而通常蓝宝石长晶方法大体包括有以下几种:
火焰融熔法(Flame Fusion):火焰融熔法是利用氢气、氧气燃烧高温的火炬,将从上而下掉落的氧化铝粉融化,液融滴在下盘承接的晶种上而固化,有如钟乳石洞内的石笋成长般的变大。此种氧化铝单晶最大可达直径3厘米,但其内部可能含有气泡,及未融化的氧化铝粉及残留应力等瑕疵,故只适用于手表表面的蓝宝石玻璃、蓝宝石齿轮(Gear)及装饰品等用途。世界生产此种蓝宝石的工厂发迹于欧洲,例如法国的Bircon闻名于世。
助熔法(Flux Growth):助熔法则是利用助熔剂,如氧化铅、氟化铝及氟化钠等,将氧化铝在低于2050℃溶解,再经由液体慢慢冷却,过饱和析出。此种方法是传统实验室培育新材料的方法,不适用于工业界的量产。目前是以此生产宝石等装饰品的公司,如美国JO Crystal及Chatham。
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