[发明专利]一种电子型高温超导体镧铈铜氧薄膜的制备方法无效
| 申请号: | 200610165448.4 | 申请日: | 2006-12-20 |
| 公开(公告)号: | CN101205600A | 公开(公告)日: | 2008-06-25 |
| 发明(设计)人: | 赵柏儒;袁洁;吴昊;金魁;赵力;曹立新;许波 | 申请(专利权)人: | 中国科学院物理研究所 |
| 主分类号: | C23C14/28 | 分类号: | C23C14/28;C23C14/54;C23C14/08;H01L39/24 |
| 代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 高存秀 |
| 地址: | 100080北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 电子 高温 超导体 镧铈铜氧 薄膜 制备 方法 | ||
1.一种制备电子型高温超导体La2-xCexCuO4薄膜的方法,使用脉冲激光沉积设备;其特征在于,包括以下步骤:
1).按照La2-xCexCuO4配比称料,其中0.08≤x≤0.16;采用固相反应法制成La2-xCexCuO4陶瓷靶材,安装到反应室的靶座上;
2).选择衬底:衬底为SrTiO3、MgO或LaAlO3,清洗干净放入反应室内加热台上备用,关闭反应室;
3).将反应室内抽真空至背底真空优于2.0×10-4Pa;
4).通过加热器将衬底加热至温度为675-800℃;
5).首先向反应室内通入氧气,调整反应室内的气压为10-20Pa;
6).然后对La2-xCexCuO4陶瓷靶材表面进行清理;
7).调节靶基距为3-6cm,激光脉冲频率为1-6Hz,激光能量为180-240mJ,开始在衬底上制备La2-xCexCuO4,沉积La2-xCexCuO4薄膜时间为5-20分钟;
8).反应结束后,停止通入反应气体,并且将反应室内抽真空至真空度优于2×10-4Pa,然后将步骤7)制备的La2-xCexCuO4薄膜样品降温至450-550℃,保持10-20分钟进行退火;之后自然冷却至室温,得到本发明的La2-xCexCuO4薄膜。
2.按照权利要求1所述的制备电子型高温超导体La2-xCexCuO4薄膜的方法,其特征在于,
所述步骤6)中对La2-xCexCuO4陶瓷靶材表面进行清理的条件为:激光脉冲频率为1-6Hz,激光能量180-240mJ,时间10-20分钟。
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