[发明专利]敏感性光罩

说明书

技术领域

本发明涉及光罩，具体地说，涉及一种敏感性光罩。

背景技术

曝光过程中，光罩的质量影响到整个图形成形的质量，在光罩的制造工艺中，通常会涉及硫酸，硝酸等化学品，由于这些化学品的存在，光罩中会遗留一些细小原子。当潜伏有细小原子的光罩在曝光的过程受到光照后，这些细小原子会与空气中的离子结合形成一些结晶体，这些结晶体会造成曝光后的晶圆上出现坏点。

目前光罩的制造工艺不能避免产生细小原子，但是如果越早发现这些存在细小原子的光罩，就可以在后续制程中采取补救措施。然而，现有技术不能很及时地发现存在细小原子的光罩，从而造成后续制程存在潜在的风险。

发明内容

本发明的目的在于提供一种敏感性光罩，该光罩可以更快地生长结晶体。

为实现上述目的，本发明提供一种敏感性光罩，该光罩至少由石英层和覆盖在石英层表面的铬构成，其中，该光罩的石英层厚度大于0.5mm，且铬的厚度为800A。

所述光罩的透光率为40％至60％。

所述光罩的图形类型为线和空格相间隔。

所述光罩图形中线和空格的比率为1.0/10.0至1.0/5.0。

所述光罩的图形线条大小为1.0um至1.6um。

与现有技术相比，本发明的敏感性光罩可以具备特定的厚度，透光率，图性类型以及图形线条大小特性，在相同的条件下，敏感性光罩可以比现有光罩更快地生长结晶体，以便更早地在后续制程采取补救措施。

附图说明

通过以下对本发明一实施例结合其附图的描述，可以进一步理解其发明的目的、具体结构特征和优点。其中，附图为：

图1为本发明敏感性光罩与普通光罩生长结晶的对比示意图。

具体实施方式

本发明提供一种敏感性光罩，该光罩具备一些特定的技术参数，如下表1所示：

表1

具备表1所有特征的光罩就是本发明的敏感性光罩。

请参阅图1，白色的亮点即是结晶。实验证明，在相同的条件下，该敏感性光罩和普通光罩相比，敏感性光罩在曝光过程中更容易生长结晶体。