[发明专利]清洗厚膜光刻胶的清洗剂无效
| 申请号： | 200610147346.X | 申请日： | 2006-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN101201557A | 公开（公告）日： | 2008-06-18 |
| 发明（设计）人： | 彭洪修;史永涛;刘兵;曾浩 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;G03F7/32;G03F7/26 |
| 代理公司： | 上海虹桥正瀚律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 清洗 光刻 洗剂 | ||
1.一种清洗厚膜光刻胶的清洗剂，其特征在于含有：二甲基亚砜、氢氧化钾、烷基醇胺和烷基二醇单苯基醚。
2.如权利要求1所述的清洗剂，其特征在于：所述的二甲基亚砜的含量为质量百分比35～95％。
3.如权利要求2所述的清洗剂，其特征在于：所述的含量为质量百分比60～95％。
4.如权利要求1所述的清洗剂，其特征在于：所述的氢氧化钾的含量为质量百分比0.1～5％。
5.如权利要求4所述的清洗剂，其特征在于：所述的含量为质量百分比0.5～3％。
6.如权利要求1所述的清洗剂，其特征在于：所述的烷基醇胺的含量为质量百分比0.1～20％。
7.如权利要求6所述的清洗剂，其特征在于：所述的含量为质量百分比0.5～10％。
8.如权利要求1所述的清洗剂，其特征在于：所述的烷基二醇单苯基醚的含量为质量百分比1～40％。
9.如权利要求8所述的清洗剂，其特征在于：所述的含量为质量百分比5～25％。
10.如权利要求1所述的清洗剂，其特征在于：所述的烷基醇胺为单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺或异丙醇胺。
11.如权利要求1所述的清洗剂，其特征在于：所述的烷基二醇单苯基醚为乙二醇单苯基醚、丙二醇单苯基醚、异丙二醇单苯基醚、二乙二醇单苯基醚、二丙二醇单苯基醚或二异丙二醇单苯基醚。
12.如权利要求1所述的清洗剂，其特征在于：所述的清洗剂还含有缓蚀剂。
13.如权利要求12所述的清洗剂，其特征在于：所述的缓蚀剂的含量为小于或等于质量百分比5％。
14.如权利要求13所述的清洗剂，其特征在于：所述的含量为质量百分比0.05～2％。
15.如权利要求12所述的清洗剂，其特征在于：所述的缓蚀剂为苯并三氮唑、2-巯基苯并噁唑或2-巯基苯并噻唑。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安集微电子（上海）有限公司，未经安集微电子（上海）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200610147346.X/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：利用专用车载电话识别非法汽车的方法
- 下一篇：可吸汗鼠标
