[发明专利]光学扩散模块以及光扩散结构的形成方法有效

专利信息
申请号: 200610141210.8 申请日: 2006-09-28
公开(公告)号: CN101153924A 公开(公告)日: 2008-04-02
发明(设计)人: 赵志强;萧柏龄;曾宇灿;林正轩;赖美君 申请(专利权)人: 财团法人工业技术研究院
主分类号: G02B5/02 分类号: G02B5/02
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 光学 扩散 模块 以及 结构 形成 方法
【权利要求书】:

1.一种光学扩散模块,包括:

一扩散板,其具有一第一面;

一光扩散结构,其形成于所述第一面上,该光扩散结构包括:

多个突起部,它们沿第一方向以及第二方向被排列成一个二维的阵列;

多个凹陷部,它们沿所述第一方向以及第二方向被排列成一个二维的阵列,其中,每一突起部相邻于多个凹陷部,每一凹陷部相邻于多个突起部,这些突起部、凹陷部以及突起部与凹陷部的相邻处的曲率皆不为零。

2.如权利要求1所述的光学扩散模块,其中,沿所述第一方向,任意两突起部之间的距离均相等。

3.如权利要求2所述的光学扩散模块,其中,沿所述第二方向,任意两突起部之间的距离均相等。

4.如权利要求3所述的光学扩散模块,其中,沿所述第一方向,任意两凹陷部之间的距离均相等。

5.如权利要求4所述的光学扩散模块,其中,沿所述第二方向,任意两凹陷部之间的距离均相等。

6.如权利要求2所述的光学扩散模块,其中,沿所述第二方向,任意两突起部之间的距离不相等。

7.如权利要求6所述的光学扩散模块,其中,沿所述第二方向,任意两突起部之间的距离从所还光扩散结构的中央向两侧边渐减。

8.如权利要求6所述的光学扩散模块,其中,沿所述第二方向,任意两突起部之间的距离从所迟光扩散结构的中央向两侧边渐增。

9.如权利要求6所述的光学扩散模块,其中,沿所述第一方向,任意两凹陷部之间的距离均相等。

10.如权利要求9所述的光学扩散模块,其中,沿所述第二方向,任意两凹陷部之间的距离不相等。

11.如权利要求10所述的光学扩散模块,其中,沿所述第二方向,任意两凹陷部之间的距离从所述光扩散结构的中央向两侧边渐减。

12.如权利要求10所述的光学扩散模块,其中,沿所述第二方向,任意两凹陷部之间的距离从所述光扩散结构的中央向两侧边渐增。

13.如权利要求1所述的光学扩散模块,其中,沿所述第一方向,任意两突起部之间的距离不相等。

14.如权利要求13所述的光学扩散模块,其中,沿所述第二方向,任意两突起部之间的距离不相等。

15.如权利要求14所述的光学扩散模块,其中,沿所述第一方向,任意两突起部之间的距离从所述光扩散结构的中央向两侧边渐减。

16.如权利要求15所述的光学扩散模块,其中,沿所述第二方向,任意两突起部之间的距离从所述光扩散结构的中央向两侧边渐减。

17.如权利要求15所述的光学扩散模块,其中,沿所述第二方向,任意两突起部之间的距离从所述光扩散结构的中央向两侧边渐增。

18.如权利要求14所述的光学扩散模块,其中,沿所述第一方向,任意两突起部之间的距离从所述光扩散结构的中央向两侧边渐增。

19.如权利要求18所述的光学扩散模块,其中,沿所述第二方向,任意两突起部之间的距离从所述光扩散结构的中央向两侧边渐增。

20.如权利要求13所述的光学扩散模块,其中,沿所述第一方向,任意两凹陷部之间的距离不相等。

21.如权利要求20所述的光学扩散模块,其中,沿所述第二方向,任意两凹陷部之间的距离不相等。

22.如权利要求1所述的光学扩散模块,其中,还包括一扩散膜,来自光源的光线依序通过该扩散膜以及所述光扩散板而被扩散。

23.如权利要求1所述的光学扩散模块,其中,所述扩散板还具有一第二面,在该第二面上形成粒状结构,来自光源的光线依序通过该第二面以及所述第一面而被扩散。

24.如权利要求1所述的光学扩散模块,其中,所述扩散板还具有一第二面,在该第二面上形成雾化结构,来自光源的光线依序通过该第二面以及所述第一面而被扩散。

25.如权利要求1所述的光学扩散模块,其中,所述扩散板由具有扩散效果的高分子材料制成。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于财团法人工业技术研究院,未经财团法人工业技术研究院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200610141210.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top