[发明专利]用于数字光处理投影装置的光处理结构有效

专利信息
申请号: 200610140263.8 申请日: 2006-10-20
公开(公告)号: CN101165541A 公开(公告)日: 2008-04-23
发明(设计)人: 陈锡钊;黄俊杰 申请(专利权)人: 台达电子工业股份有限公司
主分类号: G02B27/10 分类号: G02B27/10;G03B21/14;H04N9/31
代理公司: 北京连和连知识产权代理有限公司 代理人: 王光辉
地址: 台湾省桃园*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 用于 数字 处理 投影 装置 结构
【权利要求书】:

1.一种用于数字光处理投影装置的光处理结构,其特征是该数字光处理投影装置包含多个数字微镜装置,该光处理结构包含:

分光架构,包含:

至少一个分光组件,用以将主入射光分离为多个次入射光;

反射架构,包含:

多个光反射组件,分别接收该多个次入射光,并将之反射至该多个数字微镜装置上;

合光架构,包含:

合光棱镜组,具有两个三角棱镜,各该三角棱镜中的一个斜面互相邻接,用以接收自该多个数字微镜装置上处理后的该多个次入射光,加以耦合并向外传送。

2.根据权利要求1所述的光处理结构,其中该数字光处理投影装置包含两个数字微镜装置及两个相对应的光反射组件。

3.根据权利要求2所述的光处理结构,其特征是各该光反射组件为全反射棱镜组。

4.根据权利要求1所述的光处理结构,其特征是各该三角棱镜为等腰直角三角棱镜。

5.根据权利要求1所述的光处理结构,其特征是各该三角棱镜为等腰三角棱镜,其各底角实质上介于40-45度间。

6.根据权利要求1所述的光处理结构,其特征是该合光棱镜组还包含复合镀膜层,披覆于该三角棱镜的斜面的至少其中之一面。

7.根据权利要求1所述的光处理结构,其特征是该分光架构于进行分光时,所测量的偏振光波长漂移量,与该合光架构于合光时,所测量的偏振光波长漂移量,实质上相同。

8.根据权利要求7所述的光处理结构,其特征是该偏振光波长漂移量实质上介于20纳米至30纳米之间。

9.根据权利要求1所述的光处理结构,其特征是该至少一个分光组件,包含分光镜,用以将该主入射光分离为多个不同颜色的次入射光。

10.根据权利要求9所述的光处理结构,其特征是该分光架构还包含色轮。

11.根据权利要求10所述的光处理结构,其特征是该色轮设于该分光镜前方。

12.根据权利要求11所述的光处理结构,其特征是还包含积分柱,设于该分光镜及该色轮之间。

13.根据权利要求12所述的光处理结构,其特征是该色轮设于该分光镜后方,处理上述这些次入射光中的一个。

14.根据权利要求2所述的光处理结构,其特征是该合光棱镜组还包含复合镀膜层,披覆于该三角棱镜的斜面的至少其中之一面。

15.根据权利要求14所述的光处理结构,其特征是该至少一个分光组件,包含分光镜,用以将该主入射光分离为红色次入射光、及蓝绿混合次入射光。

16.根据权利要求15所述的光处理结构,其特征是该红色次入射光,透过该复合镀膜层,进行反射;该蓝绿混合次入射光,透过该复合镀膜层,进行穿透后,与该反射的红色次入射光,进行耦合后,向外传出。

17.根据权利要求1所述的光处理结构,其特征是还包含:

第一透镜组,汇集该主入射光;及

第二透镜组,汇集上述这些多个入射光的至少其中之一。

18.根据权利要求6所述的光处理结构,其特征是该复合镀膜层包含至少一层具有高折射率的分光镀膜以及至少一层具有低折射率的分光镀膜。

19.根据权利要求18所述的光处理结构,其特征是该高折射率的分光镀膜为氧化钛。

20.根据权利要求18所述的光处理结构,其特征是该低折射率的分光镀膜为氧化硅。

21.根据权利要求18所述的光处理结构,其特征是该复合膜层的层数介于80层至100层之间。

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