[发明专利]具有高受激发射截面的掺钕氟化钇纳米晶透明玻璃陶瓷及其制备方法无效
| 申请号: | 200610135390.9 | 申请日: | 2006-12-27 |
| 公开(公告)号: | CN101209900A | 公开(公告)日: | 2008-07-02 |
| 发明(设计)人: | 陈大钦;王元生;马恩;余运龙 | 申请(专利权)人: | 中国科学院福建物质结构研究所 |
| 主分类号: | C03C10/00 | 分类号: | C03C10/00;C03C3/112;C03B32/02 |
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| 地址: | 350002福*** | 国省代码: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 具有 受激发射 截面 氟化 纳米 透明 玻璃 陶瓷 及其 制备 方法 | ||
1.一种具有高受激发射截面的掺钕氟化钇纳米晶透明玻璃陶瓷,其特征在于:该玻璃陶瓷组分为(摩尔比):44SiO2-28Al2O3-xYF3-yLiF-zNdF3,其中x=13~18,z=0.01~2.0,y=(28-x-z)。
2.一种权利要求1的具有高受激发射截面的掺钕氟化钇纳米晶透明玻璃陶瓷的制备方法,其特征在于:采用熔体急冷法制备。
3.如权利要求2所述的制备方法,其特征在于:采用SiO2、Al2O3、NaF、YF3、和NdF3粉体作为原料,混合均匀后加热到1300-1500℃后保温1-5小时,然后,将玻璃熔液快速倒入300℃预热的铜模中成形;将获得的玻璃放入电阻炉中退火以消除内应力;退火后的玻璃继续在550-750℃加热保温1-10小时。
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