[发明专利]一种遮光掩膜板的制造方法及其应用

说明书

技术领域

本发明设计液晶显示器制造过程中的刻蚀工艺，特别涉及液晶显示器制作过程中的刻蚀过程中的掩膜板的制造过程。

背景技术

在液晶显示器的生产中，上下两电极之间的液晶具有一定流动性。因而必须在液晶的周围涂上一层封框胶，来固定液晶。而由于涂覆的封框胶的本身的特性，在封框胶涂覆后还需要有一个热风硬化与紫外线硬化结合的硬化过程。但是在紫外线硬化的过程中，如果不把封框胶外的其他位置保护起来，那么液晶显示器的其他结构，例如MOS开关，都会暴露在紫外线的照射下，这样就会对所述的其他结构产生损伤。因而，在封框胶的紫外线硬化过程中，必须要有一个用于封框胶硬化的遮光掩膜板来遮住封框胶之外的其他部位以避免这些部位暴露在紫外线中。现有技术中，掩膜板的制作过程，使用一个石英母版对覆盖光刻胶的带有金属膜的玻璃基板上的光刻胶进行曝光，显影，再对金属膜进行刻蚀，之后剥离剩余的光刻胶，来得到遮光掩膜版。但是这种工艺，必须要使用石英母版，，不同的产品需要制作不同的母版，增加了石英母版的制作过程，而石英母版的成本昂贵，因而大大提高了遮光掩膜版的制作成本和制作时间。

发明内容

针对现有的掩膜板的制作必须使用石英母版所带来的成本和时间上的问题，本发明提出了一种新的掩膜板制作方法来降低成本、减少制作时间。

其工艺流程如下：

1.在基板的金属膜上不使用石英母版对光刻胶进行曝光的方式来制作基板的金属膜上的刻蚀阻挡层。

2.在该层刻蚀阻挡层的保护下，对金属膜进行刻蚀，留下呈遮光图案的金属膜。

3.剥离金属膜上剩余的刻蚀阻挡层

其中，在金属膜上形成刻蚀阻挡层的方案，有间接形成和直接形成两种：

一、间接形成的方案包含以下步骤：

a1.在所述金属膜上涂覆感光材料层；

a2.使用激光照射在所述感光材料层上需要曝光部分，以获得部分曝光的感光树脂层；

a3.对所述部分曝光的感光材料层进行显影，形成呈所述预定图案的树脂层，以作为所述刻蚀阻挡层。

a4.对具有所述刻蚀阻挡层的所述基板上的金属膜进行刻蚀、剥离剩余刻蚀阻挡层。

二、直接形成的方案，包含以下步骤：

A1.在所述金属膜上形成呈所述预定图案的可硬化材料层；

A2.对所述可硬化材料层进行硬化处理，以生成所述刻蚀阻挡层。

A3.对具有所述刻蚀阻挡层的所述基板上的金属膜进行刻蚀、剥离剩余刻蚀阻挡层。

其中，所述基板，可以是用于制作液晶显示器用遮光掩膜板的玻璃基板，也可以用于其他需要制作掩膜版的生产过程中的掩膜板的材料基板。

与现有技术相比，本发明通过不使用石英母版对光刻胶进行曝光的方式来制作基板的金属膜上的刻蚀阻挡层，具有降低成本、减少制作时间的优点。

附图说明

通过阅读参照以下附图所作的对非限制性实施例所作的详细描述，本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显：

图1是本发明的流程图；

图2是使用正性感光树脂的激光排版方案制作遮光掩膜板流程图；

图3是使用负性感光树脂的激光排版方案制作遮光掩膜板流程图；

图4是使用紫外线硬化感光树脂的喷墨印刷方案制作遮光掩膜板流程图；

图5是使用紫外线硬化感光树脂的丝网印刷方案制作遮光掩膜板流程图；

图6是使用紫外线硬化感光树脂的凸版印刷方案制作遮光掩膜板流程图；

图7是使用紫外线硬化感光树脂的凹版印刷方案制作遮光掩膜板流程图；

附图中相同或相似的附图标记表示相同的部件。

具体实施方式

为了更好地理解本发明，下面结合本发明的具体实施例作进一步说明，但其不限制本发明。

本发明按刻蚀阻挡层图案的形成方式分为直接形成和间接形成两个方案。

间接形成方案：

在覆盖了金属膜的基板上，涂覆一层感光材料层，这层感光材料可以是正性也可以是负性的感光树脂。

用激光制版技术用激光按感光材料的正负性将遮光图案或者遮光图案以外的图案照射在所述基板的金属膜上的感光材料上，形成该层感光材料部分曝光。

当采用对所述部分区域曝光的感光材料层进行显影，形成呈所述预定图案的树脂层，以作为所述刻蚀阻挡层。

对具有所述刻蚀阻挡层的所述基板上的金属膜进行刻蚀、剥离剩余刻蚀阻挡层。

从而制作得到所需要的掩膜板。