[发明专利]低蚀刻性光刻胶清洗剂及其清洗方法

权利要求书

1.一种低蚀刻性的光刻胶清洗剂，含有(a)季胺氢氧化物，(b)二甲基亚砜，(c)分子式如式I所示的烷基二醇芳基醚或其衍生物，(d)乙醇胺，(e)水，(f)缓蚀剂，

式I

其中，R₁为含有6～18个碳原子的芳基；R₂为H、C₁～C₁₈的烷基或含有6～18个碳原子的芳基；m＝2～6；n＝1～6。

2.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的季胺氢氧化物选自下列中的一个或多个：四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、三甲基乙基氢氧化铵、二甲基二乙基氢氧化铵和三甲基苯基氢氧化铵。

3.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的季胺氢氧化物的含量为重量百分比0.1-10％。

4.根据权利要求3所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的季胺氢氧化物的含量为重量百分比0.1-5％。

5.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的烷基二醇芳基醚或其衍生物为乙二醇单苯基醚、丙二醇单苯基醚、异丙二醇单苯基醚、二乙二醇单苯基醚、二丙二醇单苯基醚、二异丙二醇单苯基醚、乙二醇单苄基醚、丙二醇单苄基醚、乙二醇二苯基醚、丙二醇二苯基醚、异丙二醇二苯基醚、二乙二醇二苯基醚、二丙二醇二苯基醚、二异丙二醇二苯基醚、乙二醇二苄基醚或丙二醇二苄基醚。

6.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的烷基二醇芳基醚或其衍生物的含量为重量百分比0.1-99％。

7.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的缓蚀剂选自酚类，羧酸、羧酸酯类，酸酐类，或膦酸、膦酸酯类缓蚀剂。

8.根据权利要求7所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的酚类为苯酚、1，2-二羟基苯酚、对羟基苯酚或连苯三酚。

9.根据权利要求7所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的羧酸、羧酸酯类为苯甲酸、对氨基苯甲酸、对氨基苯甲酸甲酯、间苯二甲酸、邻苯二甲酸、邻苯二甲酸甲酯、没食子酸或没食子酸丙酯。

10.根据权利要求7所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的酸酐类为乙酸酐、己酸酐、邻苯二甲酸酐、聚马来酸酐或马来酸酐。

11.根据权利要求7所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的磷酸、磷酸酯类为1，3-(羟乙基)-2，4，6-三膦酸、氨基三亚甲基膦酸或2-膦酸丁烷-1，2，4-三羧酸。

12.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的缓蚀剂的含量为重量百分比0.01-10％。

13.根据权利要求12所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的缓蚀剂的含量为重量百分比0.1-3％。

14.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的二甲基亚砜的含量为重量百分比0.1-99％。

15.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的乙醇胺的含量为重量百分比0.1-30％。

16.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的水的含量为重量百分比0.01-20％。

17.根据权利要求16所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的水的含量为重量百分比0.1-10％。

18.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的清洗剂还含有表面活性剂。

19.根据权利要求18所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的表面活性剂为含羟基聚醚、聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、聚氧乙烯、聚硅氧烷、氟代聚乙烯醇、氟代聚乙烯吡咯烷酮、氟代聚氧乙烯、氟代聚硅氧烷、硅酸盐或烷基磺酸盐等。

20.根据权利要求18所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的表面活性剂的含量为重量百分比0-10％。

21.根据权利要求20所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的表面活性剂的含量为重量百分比0-3％。