[发明专利]一种玻璃衬底上制备牢固碳膜的方法无效
申请号: | 200610118331.0 | 申请日: | 2006-11-14 |
公开(公告)号: | CN101182131A | 公开(公告)日: | 2008-05-21 |
发明(设计)人: | 华缜;王红光;曹章轶 | 申请(专利权)人: | 上海广电电子股份有限公司 |
主分类号: | C03C17/36 | 分类号: | C03C17/36;C03C17/06;C03C17/22 |
代理公司: | 上海申汇专利代理有限公司 | 代理人: | 吴宝根 |
地址: | 200060*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 玻璃 衬底 制备 牢固 方法 | ||
1.一种玻璃衬底上制备牢固碳膜的方法,其特征在于,按如下具体制作步骤进行:
1)先在玻璃上沉积一层铬、铂、钼、钽、钛、锡、铋、锑、铟中的任何一种金属薄膜;
2)再在所述金属薄膜上沉积铁、钴、镍、钯中的任何一种金属的薄膜;
3)然后用常规的化学气相沉积法生长碳膜,生长碳膜时的衬底温度为400℃~600℃。
2.根据权利要求1所述的玻璃衬底上制备牢固碳膜的方法,其特征在于,所述步骤1)中金属薄膜的厚度为0.1nm至50nm,所述步骤2)中金属薄膜的厚度为10nm至50nm。
3.根据权利要求1所述的玻璃衬底上制备牢固碳膜的方法,其特征在于,所述步骤1)、步骤2)中的金属能通过电子束蒸发,溅射方法制备。
4.一种玻璃衬底上制备坚固碳膜的方法,其特征在于,按如下具体制作步骤进行:
1)在玻璃上沉积铬、铂、钼、钽、钛、锡、铋、锑、铟中的任何一种金属与铁、钴、镍、钯中的合金或其金属氧化物作为催化剂;
2)然后用常规的化学气相沉积法生长碳膜,生长碳膜时的衬底温度为400℃~600℃。
5.根据权利要求4所述的玻璃衬底上制备牢固碳膜的方法,其特征在于,所述步骤1)在制作合金薄膜催化剂时,利用电子束蒸发的真空镀膜系统,采用多组分共蒸发的方法,能任意控制薄膜的组分和厚度。
6.根据权利要求4所述的玻璃衬底上制备牢固碳膜的方法,其特征在于,所述步骤1)中其合金薄膜厚度为10nm至500nm。
7.根据权利要求4所述的玻璃衬底上制备牢固碳膜的方法,其特征在于,所述步骤1)中的催化剂薄膜金属氧化物能通过电子束蒸发,氧化气氛溅射,金属热处理方法制备。
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