[发明专利]一种光刻胶清洗剂

权利要求书

1.一种光刻胶清洗剂，包含缓蚀剂和溶剂，其特征在于所述的缓蚀剂包含两类化合物：一类为烷基醇单芳基醚类化合物，另一类选自酚类化合物，羧酸、聚羧酸、羧酸酯、聚羧酸酯类化合物，酸酐、聚酸酐类化合物或膦酸、膦酸酯类化合物。

2.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的烷基醇单芳基醚类化合物为乙二醇单苯基醚、丙二醇单苯基醚、异丙二醇单苯基醚、二乙二醇单苯基醚、二丙二醇单苯基醚、二异丙二醇单苯基醚、乙二醇单苄基醚、丙二醇单苄基醚或异丙二醇单苄基醚。

3.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的烷基醇单芳基醚类化合物的含量为0.05～30wt％。

4.根据权利要求3所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的烷基醇单芳基醚类化合物的含量为1.0～15wt％。

5.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的酚类化合物为1，2-二羟基苯酚、对羟基苯酚或连苯三酚。

6.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的酚类化合物的含量为0.001～15wt％。

7.根据权利要求6所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的酚类化合物的含量为0.01～5.0wt％。

8.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的羧酸、聚羧酸、羧酸酯、聚羧酸酯类化合物为苯甲酸、对氨基苯甲酸、邻苯二甲酸、没食子酸、没食子酸丙酯或含羧基的丙烯酸酯类聚合物。

9.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的羧酸、聚羧酸、羧酸酯、聚羧酸酯类化合物的含量为0.001～15wt％。

10.根据权利要求9所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的羧酸、聚羧酸、羧酸酯、聚羧酸酯类化合物的含量为0.01～5.0wt％。

11.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的酸酐、聚酸酐类化合物为乙酸酐、丙酸酐、己酸酐、马来酸酐或聚马来酸酐。

12.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的酸酐、聚酸酐类化合物的含量为0.001～15wt％。

13.根据权利要求12所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的酸酐、聚酸酐类化合物的含量为0.01～5.0wt％。

14.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的膦酸、膦酸酯类化合物为1，3-(羟乙基)-2，4，6-三膦酸、氨基三亚甲基膦酸或2-膦酸丁烷-1，2，4-三羧酸。

15.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的膦酸、膦酸酯类化合物的含量为0.001～15wt％。

16.根据权利要求15所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的膦酸、膦酸酯类化合物的含量为0.01～5.0wt％。

17.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的溶剂为亚砜、砜、咪唑烷酮和/或烷基二醇单烷基醚。

18.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的溶剂的含量为55～99.90wt％。

19.根据权利要求18所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的溶剂的含量为60～95wt％。

20.根据权利要求17所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的亚砜为二甲基亚砜、二乙基亚砜或甲乙基亚砜。

21.根据权利要求17所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的砜为甲基砜、乙基砜或环丁砜。

22.根据权利要求17所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的咪唑烷酮为2-咪唑烷酮、1，3-二甲基-2-咪唑烷酮或1，3-二乙基-2-咪唑烷酮。

23.根据权利要求17所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的烷基二醇单烷基醚为乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丁醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚或二丙二醇单丁醚。