[发明专利]光学聚酯膜用水性涂布液组成

权利要求书

1.一种聚酯薄膜包含一基材及一形成于该基材至少一表面上的涂层，其特征在于该涂层所使用的涂液包含2-40wt％树脂、0.05-30wt％经表面改质剂处理的填充粒子溶液、及0.05-10wt％添加剂，其所使用的树脂含下列两种或三种成分：

a)20-50wt％的聚酯树脂；

b)10-40wt％的三聚氰胺树脂或三聚氰胺变性树脂；

c)20-80wt％的压克力树脂。

2.如权利要求1所述的聚酯薄膜，其中，该基材为单层或三层结构的透明塑料材料。

3.如权利要求1所述的聚酯薄膜，其中，该基材为双轴延伸聚对-酞酸乙二酯。

4.如权利要求1所述的聚酯薄膜，其中，该基材为双轴延伸聚2，6-萘二甲酸乙二酯。

5.如权利要求1所述的聚酯薄膜，其中，表面改质剂至少一种选自含硅化合物或界面活性剂或高分子聚合物，或此三种中的两种或其全部的组合物。

6.如权利要求1所述的聚酯薄膜，其中，该涂层所含的填充粒子至少一种选自氧化铝、氢氧化铝、氧化硅、氧化钛、氧化锆、碳酸钙、碳酸镁或硫酸钡的无机材料。

7.如权利要求1所述的聚酯薄膜，其中，该涂层所含的填充粒子浓度占涂布层固含量的0.01％～20％。

8.如权利要求1所述的聚酯薄膜，其中，该涂层所含的填充粒子至少一种选自填充粒子A或填充粒子B或此二种填充粒子的组合。

9.如权利要求8所述的聚酯薄膜，其中，填充粒子A具有0.1～4μm粒径，填充粒子B具有0.01～0.5μm粒径。

10.如权利要求1所述的聚酯薄膜，其中，该涂层所使用的涂布液添加剂，至少一种选自含硅或含氟或含硅、氟混合成分的添加剂。

11.如权利要求1所述聚酯薄膜形成于该基材至少一表面上的涂层，是以off-line coating工艺或in-line coating双轴延伸工艺制得。

12.如权利要求11所述的形成于该基材至少一表面上的涂层，是以Gravure coater、Reverse Gravure Coater、Meyer Bar Coater、Die Coater机台进行涂布加工。