[发明专利]润滑剂、磁记录介质和滑动头

说明书

技术领域

本发明涉及一种用于磁记录装置的润滑剂。

背景技术

在磁记录装置中，带有记录转换器(本发明中简称为头)的滑动头悬浮在磁记录介质的硬盘上方，进行信息的读写。

头与在硬盘上进行记录(写)或使磁信息再现(读)的磁记录层之间的距离叫做磁空间。记录密度越大，磁空间就越小。另一方面，为提高信息传递速度，需要硬盘高速旋转。随着近来记录密度和信息传递速度的提高，有倾向于低悬浮高度和高旋转速度的趋势，结果是目前的头飞行高度(又叫头悬浮高度)位于10nm数量级，旋转速度为15,000rpm/min(rpm)数量级。

为提高硬盘驱动器的可靠性，一般将润滑剂用于磁盘和滑动头上，形成大约1至2nm的厚度。润滑剂可以减少摩擦和磨损，并防止头接触磁盘时发生异常。

因为润滑剂的膜厚度大约为头飞行高度的10％，所以其厚度对磁空间是不可忽视的因素(参见，例如，X，Ma et al.，I..E.E.E.Trans.Magn.，2001，Vol.37，p.1824)。因此，为提高记录密度，要想减小磁空间，减小润滑剂膜的厚度就显得很重要了。

但是由于受润滑剂分子大小的限制，不可能使润滑剂膜的厚度小于单分子层膜的厚度或单分子层膜厚度。尽管有可能使平均值小于此值，但这会使润滑剂的覆盖效果降低。

众所周知，润滑剂的分子量决定其单分子层膜的厚度(参见，例如，X.Ma et al.，″Journal of Chemical Physics″，1999，Vol.110，p.3，129-3,137)。因此，可以通过降低分子量的方法来减小单分子层膜厚度。

但是如果润滑剂分子量小，就更容易挥发。另外，它在高速旋转时更易于消散。如果考虑HDI(头和磁盘的接触面)性能，如在高速旋转时润滑剂的损失，则应用小分子的驱动器存在自身的局限性。因此，必须找到即使是高分子量也能提供足够薄的单分子层膜厚度的润滑剂，来克服这一局限性。

另外，在从低温至高温的广范围内使用硬盘驱动器时，通常在高温时高粘度的润滑剂有更好的耐久性。可以通过增大高分子量或采用端基为强极性的润滑剂来提高粘度。但是如果分子量增加，则单分子层膜的厚度也会增加，使其不适合达到低飞行高度。另外，如果粘度增大，在低温时由于摩擦而造成润滑剂损失，从而会降低磁记录介质和头的耐久性。

本发明的目的就是解决此问题，并且研发一种技术使得即使在使用高分子物质时，润滑剂膜的厚度也很薄，在不降低飞行稳定性的情况下，在宽温度范围可使膜的可靠性得到提高。本发明的其它目的和优点将在以下说明中清晰可见。

发明内容

根据本发明的一个方案，本发明提供了包括含氟聚合物的润滑剂，具有如下关系：Y＜-1.4475X+2.815，其中Y是23℃时扩散系数的自然对数(单位：μm²/s)；X是20℃时的粘度(单位：Pas)。

根据本发明的另一个方案，本发明提供了包括含氟聚合物的润滑剂，该聚合物的结构如式1所示，且相邻极性基团之间的分子链的数均分子量不小于500。

H-{(XZ)_m，(YZ)_n}-(X_δ，Y_(1-δ))-H   ---(1)

在式1中，m和n各自是不小于0的实数(m和n不能同时为0)；{(XZ)_m，(YZ)_n}表示结构单元XZ和结构单元YZ可相互构成无规序列或嵌段序列。相似地，(X_δ，Y_(1-δ)表示结构单元X和结构单元Y可相互构成无规序列或嵌段序列；δ是不小于0且不大于1的实数；X、Y和Z的化学结构分别如式12、13和14所示(其中X、Y和Z中的氢可以被含有1-3个碳的有机基团所取代，该有机基团可以包括醚键，也可以包括用于取代氢的极性基团和氟中之一或二者都包括)，

-O(CH₂CH₂O)_aCH₂CF₂O(CF₂CF₂O)_p(CF₂O)_qCF₂CH₂(OCH₂CH₂)_bO-(12)