[发明专利]半导体制造的虚拟量测预估与建立预估模型的方法与系统无效

专利信息
申请号: 200610108408.6 申请日: 2006-08-02
公开(公告)号: CN101118422A 公开(公告)日: 2008-02-06
发明(设计)人: 戴鸿恩;罗皓觉 申请(专利权)人: 力晶半导体股份有限公司
主分类号: G05B17/00 分类号: G05B17/00;G05B19/00;H01L21/00;G06Q10/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 蒲迈文;黄小临
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 半导体 制造 虚拟 预估 建立 模型 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种建立预估模型的方法,  包括下列步骤:

根据不同工艺选择机台的多个实时工艺状态变异检测值;

将所选的所述实时工艺状态变异检测值收集而成失误检测与分类数据,并且收集品质控制数据;

根据收集的失误检测与分类数据与品质控制数据判断数据控制品质是否符合标准;

若不符合标准,则重新收集失误检测与分类数据与品质控制数据或微调取样频率;

若符合标准,则对该失误检测与分类数据与该品质控制数据进行处理;

根据数据处理结果建立多个预估模型;

根据一相关性指针选择一最佳预估模型;以及

将该最佳预估模型传送给一虚拟量测引擎。

2.如权利要求1所述的建立预估模型的方法,其还包括对该预估模型进行验证。

3.如权利要求2所述的建立预估模型的方法,其还包括下列步骤:

对该最佳预估模型进行微调;以及

若微调完成且该最佳预估模型处于最佳状态,则将该最佳预估模型传送给该虚拟量测引擎。

4.如权利要求3所述的建立预估模型的方法,其还包括下列步骤:

根据负载散布图、贡献散布图或部分最小平方单一变量微调该最佳预估模型;

当微调后,若该最佳预估模型仍非处于最佳状态,则重新执行数据处理,然后再次进行微调;以及

再微调后,若该最佳预估模型仍非处于最佳状态,则重新执行上述建立预估模型的流程。

5.如权利要求1所述的建立预估模型的方法,其中,数据处理还包括下列步骤:

检视原始工艺数据及其控制图曲线;

在所有可影响工艺的参数或因子中,选择对工艺具有较大程度影响的参数或因子,并且在一预先定义的函数数据库中选择对应的功能函数;  以及

根据所选的参数或因子与对应的功能函数进行数据处理。

6.如权利要求1所述的建立预估模型的方法,其中,利用一复回归法与一部分最小平方法建立所述预估模型。

7.如权利要求6所述的建立预估模型的方法,其中,利用该部分最小平方法在一个时间点内同时预测多笔数据,并且处理原始数据与实时数据。

8.如权利要求1所述的建立预估模型的方法,其中,若发生预估模型建立失败的情况,则必须重新选择实时工艺状态变异检测值。

9.一种虚拟量测引擎预估品质控制数据的方法,包括下列步骤:

收集失误检测与分类数据;

根据该失误检测与分类数据判断数据控制品质是否符合标准;

若不符合标准,则停止该预估流程;

若符合标准,则对收集的失误检测与分类数据进行数据处理;以及

根据数据处理完所得的虚拟品质控制数据执行虚拟品质控制的预估。

10.如权利要求9所述的虚拟量测引擎预估品质控制数据的方法,其还包括将该虚拟品质控制数据传送给其它主机做其它应用。

11.一种虚拟引擎预估系统,包括:

一第一工艺机台,对输入的一批晶片执行所需工艺;

一第二工艺机台;

一失误检测与分类系统,耦接于该第一工艺机台,自该第一工艺机台收集该批晶片的失误检测与分类数据与品质控制数据;

一虚拟量测引擎,耦接于该失误检测与分类系统,自该失误检测与分类系统取得收集到的失误检测与分类数据与品质控制数据,以对该批晶片进行预估,若预估结果正常,则将该批晶片输出至该第二工艺机台,以执行另一道工艺;

一品质控制量测站,耦接于该虚拟量测引擎,若预估结果不正常,则对该失误检测与该分类数据与品质控制数据取样以判断收集到的失误检测与分类数据与品质控制数据是否可用,若不可用,则重新收集该批晶片的失误检测与分类数据与品质控制数据,若可用,则将该批晶片输出至该第二工艺机台,以执行另一道工艺。

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