[发明专利]离轴投影光学系统及使用该系统的超紫外线光刻装置有效
申请号: | 200610106080.4 | 申请日: | 2006-06-19 |
公开(公告)号: | CN1881091A | 公开(公告)日: | 2006-12-20 |
发明(设计)人: | 张丞爀;宋利宪;朴永洙;金锡必;金勋 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 马高平;杨梧 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 投影 光学系统 使用 系统 紫外线 光刻 装置 | ||
【权利要求书】:
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