[发明专利]隐藏铰链微机电装置无效
| 申请号: | 200610105427.3 | 申请日: | 2006-07-06 |
| 公开(公告)号: | CN101101370A | 公开(公告)日: | 2008-01-09 |
| 发明(设计)人: | 彼得·伊诺克森;马丁·布林格 | 申请(专利权)人: | 麦克罗尼克激光系统公司 |
| 主分类号: | G02B26/08 | 分类号: | G02B26/08 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波;侯宇 |
| 地址: | 瑞典*** | 国省代码: | 瑞典;SE |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 隐藏 铰链 微机 装置 | ||
1、一种微机电装置的制造方法,所述方法包括:
通过从基板除去材料而在所述基板中界定至少一个隐藏支撑;
将所述至少一个隐藏支撑贴附到包括至少一个致动电极的晶片,所述致动电极能致动所述基板的至少一部分,
其中所述基板的旋转轴基本垂直于所述隐藏支撑。
2、根据权利要求1所述的方法,其中所述隐藏支撑基本垂直于所述背表面或前表面。
3、根据权利要求1所述的方法,还包括如下步骤:
在所述基板中界定至少一个镜,其中所述镜和和所述至少一个隐藏支撑中的至少一个彼此连接。
4、根据权利要求1所述的方法,其中所述隐藏支撑通过结合方法连接到所述晶片。
5、根据权利要求1所述的方法,其中所述基板是单晶基板。
6、根据权利要求1所述的方法,其中所述微机电装置是空间光调制器。
7、根据权利要求5所述的方法,其中所述空间光调制器中的镜结构具有基本等于基板厚度的厚度。
8、根据权利要求7所述的方法,其中所述镜结构当被偏转时基本是刚性的。
9、根据权利要求1所述的方法,还包括如下步骤:
在所述背表面或前表面顶部形成反射材料的层。
10、根据权利要求1所述的方法,还包括如下步骤:
掺杂单晶材料的所述基板。
11、根据权利要求1所述的方法,还包括如下步骤:
通过氧化和/或蚀刻工艺步骤控制所述隐藏支撑的尺度。
12、根据权利要求1所述的方法,其中所述反射表面能从非致动状态在第一和第二方向转动。
13、根据权利要求1所述的方法,其中所述致动电极能静电、磁力、压电或热地致动所述基板的至少一部分。
14、一种微机电装置,包括:
基板,具有至少一个反射表面;
至少一个隐藏支撑,由与所述基板相同的材料形成;
设置在所述晶片上能致动所述反射表面的至少一个致动电极,其中所述晶片连接到所述基板且所述反射表面的旋转轴基本垂直于所述隐藏支撑。
15、根据权利要求14所述的微机电装置,其中所述隐藏支撑基本垂直于所述反射表面。
16、根据权利要求14所述的微机电装置,其中所述微机电装置是空间光调制器。
17、根据权利要求16所述的微机电装置,其中所述空间光调制器包括至少一个镜元件,其基本具有反射表面。
18、根据权利要求17所述的微机电装置,其中所述至少一个镜元件可以通过弯曲所述隐藏支撑而偏转,同时所述至少一个镜元件当被偏转时基本保持刚性。
19、根据权利要求16所述的微机电装置,其中所述空间光调制器包括至少一个镜元件,其表面具有衍射性能。
20、根据权利要求19所述的微机电装置,其中所述至少一个镜元件可以通过弯曲所述隐藏支撑而偏转,同时所述至少一个镜元件当被偏转时基本保持刚性。
21、根据权利要求14所述的微机电装置,其中所述基板是掺杂的。
22、根据权利要求14所述的微机电装置,其中所述反射表面能从非致动状态在第一和第二方向转动。
23、根据权利要求14所述的微机电装置,其中所述致动电极能静电、磁力、压电或热地致动所述基板的至少一部分。
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