[发明专利]空间光线调节装置及方法无效
申请号: | 200610074554.1 | 申请日: | 2006-04-15 |
公开(公告)号: | CN101055349A | 公开(公告)日: | 2007-10-17 |
发明(设计)人: | 冼剑光 | 申请(专利权)人: | 冼剑光 |
主分类号: | G02B26/08 | 分类号: | G02B26/08;B81B3/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 527200广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 空间 光线 调节 装置 方法 | ||
所属技术领域
本发明涉及一种空间光线调节装置,利用静电场控制微镜,实现对入射光线的调节,属于一种微机械系统MicroElectroMechanical System(MEMS)。
背景技术
目前公知的空间光线调节装置,按其对入射光线的调节方式分,主要有:A)对光线的反射方向调节,其中美国专利号5,083,857中公布的微镜系统即是其中一种典型的结构,目前这一方案已经实现了大规模生产;B)对光线实现衍射式的调节,美国专利号5,311,360公布了这一方案。
发明内容
包含铰链结构的空间光线调节装置,微镜运动时,除了要克服微镜的惯性外,还需要克服铰链结构的回复力,因而需要的控制电压要提高;现有的空间光线调节装置中,微镜只是一面受到静电力作用,因而微镜的复位通常只能靠铰链结构的回复力,因而会有铰链结构疲劳引起的微镜失效现象。本发明提出了一种包含活动镜片的空间光线调节装置,微镜运动时,不需要克服铰链结构的回复力,既然没有了铰链结构,也就消除了铰链结构疲劳引起的微镜失效现象。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:空间光线调节装置由前后基板组成,前后基板之间有着分离的微镜,微镜之间通过框架隔开;由于微镜被限制于一个标准的长方体的空间中,因而其转动的角度及前后可以移动的距离是固定的,而且是精确的;前后基板之间施加一定的电压,对微镜产生静电吸引力,使得微镜按一定的方向转动或运动。
本发明的有益效果是,由于采用了分离的微镜,没有铰链结构,微镜运动时,不需要克服铰链结构的回复力,既然没有了铰链结构,也就消除了铰链结构疲劳引起的微镜失效现象。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
图1是本发明的原理图。
图2是本发明的主要结构分解图。
图3.1,图3.2是本发明的优选实施例中前基板的制造流程。
图4是本发明的优选实施例中,前基板与后基板组装后的结构示意图。
图5是本发明的优选实施例中,驱动电压的波形图。
图1中,1.前基板,2.微镜之间的分隔框架,3.后基板,4.微镜。前基板(1)平行于后基板(3),并且两者之间的距离是固定的,微镜(4)置于前基板(1)与后基板(3)之间,微镜之间有着分隔框架(2),因此微镜(4)的运动是受到限制的,其转动的角度及前后可以移动的距离是固定的。
图2中,5.前基板,6.前基板上的电极层及微镜着陆点,7.微镜,8.微镜之间的分隔框架及微镜着陆点,9.SRAM(存储器)上的电极,10.SRAM(存储器)
图3.1中,201.前基板,202.在前基板上溅镀透明电极层,203.将透明电极层刻蚀成所需电极,204.淀积微镜着陆层,205.在微镜着陆层上刻蚀出所需微镜着陆点,206.涂覆牺牲层,207.牺牲层曝光成型。
图3.2中,208.淀积微镜层,209.在微镜层上刻蚀出所需微镜,210.涂覆牺牲层,211.牺牲层曝光成型,212.淀积微镜之间的框架间隔及微镜着陆层,213.刻蚀出微镜框架间隔及微镜着陆点,214.刻蚀牺牲层,释放整个结构。
图4中,301.前基板,302.后基板,303.前基板上的偏置电极,304.后基板上的偏置电极,305.前基板上的电极1,306.前基板上的电极2,307.后基板上的电极1,308.后基板上的电极2,309.微镜
具体实施方式
本发明的一个优选实施例是投影设备中对入射光线进行调节的光阀(优选实施例仅仅是用于示例的目的而不是作为对本发明的限制,本发明可以在任何适当的应用系统中实现),下面将结合附图对其作详细的描述。
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