[发明专利]抗反射膜和曝光方法无效
| 申请号： | 200610073937.7 | 申请日： | 2006-02-28 |
| 公开（公告）号： | CN1828419A | 公开（公告）日： | 2006-09-06 |
| 发明（设计）人： | 松泽伸行;渡辺阳子;布恩塔里卡·桑纳卡特;小泽谦;山口优子 | 申请（专利权）人： | 索尼株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09;G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 陶凤波;侯宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 反射 曝光 方法 | ||
【说明书】：
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于索尼株式会社，未经索尼株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200610073937.7/2.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：复合膜、集电体及使用了它们的燃料电池
- 下一篇：皮革中Cr6+的自动分析方法
