[发明专利]清洗治具

说明书

技术领域

本发明涉及一种夹持装置，尤其涉及一种用于清洗光学组件的清洗治具。

背景技术

随着多媒体技术的发展，照相机、数码照相机、手机照相镜头等成像器材越来越为广大消费者青睐，在人们对照相机、数码照相机、手机照相镜头追求小型化的同时，对其拍摄出物体的影像质量提出更高的要求，即希望拍摄物体的影像画面清晰，而物体的成像质量在很大程度上取决于相机内各光学仪器的优劣。

相机内成像模组一般包括透镜、光学滤光片及影像感测组件，如电荷耦合器Charge Coupled Device，简称CCD，或者补充性氧化金属半导体Complementary Metal-Oxide Semiconductor，简称CMOS。在生产透镜及光学滤光片等这些光学组件过程中，为达到较高的洁净度，一般在这些光学组件镀膜前及镀膜后，都需经过清洗过程，目的是为了去除附着于这些光学组件表面的脏污、油渍及微粒等。而在清洗过程中，需将这些光学组件固定于治具上，并以适当的溶液及高纯度去离子水进行清洗。

一般的光学组件清洗用的清洗治具30，如图1所示，该治具30是利用三点固定的方式固定待清洗之光学组件40。治具30中的三个清洗条302是可在此治具30上做适当距离的调整，利用嵌在该清洗条302上铁氟龙(Teflon)材料所形成的V槽304，分别在组件的左、右、下方给予支撑。然而，铁氟龙所形成的V槽304的厚度及深度会阻挡水流，使光学组件40被夹持的部份清洗不干净，再者在清洗过程中，若夹持光学组件40太松，光学组件40无法承受后期超音波震荡而脱落。若夹持太紧，光学组件40不易放入及不易取出，容易造成损坏。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种可有效辅助清洗光学组件的清洗治具。

一种用于清洗光学组件的清洗治具，其包括一个载盘和一个盖体。所述载盘上具有多个台阶状通孔，用于容置光学组件，所述台阶状通孔的孔壁上设有疏水性材料层。所述盖体上设置有与所述台阶状通孔对应的多个通孔，且能够将光学组件卡在所述台阶状通孔内。

所述清洗治具通过载盘与盖体配合，将光学组件卡在载盘上的台阶状通孔中，通过载盘上的台阶状通孔与盖体上的通孔使光学组件在清洗过程中可全面接触清洗液，从而可被全面清洗，提高了清洗洁净度与良率。由于在清洗过程中，光学组件被限定在载盘上的台阶状通孔中，不会造成脱落；清洗完毕后，只需将盖体与载盘分离，便可方便地取出光学组件。且所述载盘与光学组件接触的表面具有疏水性材料层，从而便于光学组件清洗完后的去水烘干制程。

附图说明

图1是现有技术提供的一种用于清洗光学组件的清洗治具的示意图。

图2是本发明第一实施例提供的一种用于清洗光学组件的清洗治具剖视图。

图3是本发明第一实施例提供的清洗治具中的第一种载盘的俯视图。

图4是本发明第一实施例提供的清洗治具中的第二种载盘的俯视图。

图5是本发明第一实施例提供的清洗治具中的第三种载盘的剖视图。

图6是本发明第一实施例提供的清洗治具中的第一种盖体的俯视图。

图7是本发明第一实施例提供的清洗治具中的第二种盖体的俯视图。

图8是本发明第一实施例提供的清洗治具中的第三种盖体的剖视图。

图9是图2中清洗治具应用中的剖视图。

图10是本发明第二实施例提供的一种清洗治具中的载盘的仰视图。

图11是图10清洗治具中的载盘的剖视图。

图12是本发明第二实施例提供的一种清洗治具中的盖体的仰视图。

图13是图12清洗治具中的盖体的剖视图。

具体实施方式

下面将结合附图，对本发明作进一步的详细说明。

请参阅图2，本发明第一实施例提供一种用于清洗光学组件的清洗治具10，该清洗治具10包括一个载盘100及一个盖体200。

所述载盘100上具有多个台阶状通孔110，所述台阶状通孔110包括一个容置部101及一个连通部102，容置部101的孔径大于连通部102的孔径，并在两者衔接处形成台阶103。所述容置部101用于容置光学组件20，所述连通部102在光学组件20清洗过程中，能够让水流接触容置于容置部101中的光学组件20，从而对光学组件20进行清洗。为便于光学组件20后续去水烘干，缩短光学组件20去水烘干制程所消耗的时间，本实施例中，在所述容置部101的侧壁及台阶103上涂布有疏水性材料层104。优选地，所述疏水性材料为能耐较高温度的疏水性材料。具体地，所述疏水性材料可采用铁氟龙。