[发明专利]清洗治具无效

专利信息
申请号: 200610062615.2 申请日: 2006-09-15
公开(公告)号: CN101143368A 公开(公告)日: 2008-03-19
发明(设计)人: 董才士 申请(专利权)人: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司
主分类号: B08B13/00 分类号: B08B13/00;B08B11/02;B08B3/04;B25B11/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518109广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 清洗
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种夹持装置,尤其是一种用于清洗光学元件的清洗治具。

背景技术

随着多媒体技术的发展,照相机、数码照相机、手机照相机等成像器材越来越为广大消费者青睐,在人们对照相机、数码照相机、手机照相机追求小型化的同时,对其拍摄出物体的影像品质体出更高的要求,即希望拍摄物体的影像画面清晰,而物体的成像品质很大程度上取决于照相机内各光学仪器的优劣。

相机内成像模组一般包括透镜、光学滤光片及影像感测元件,如电荷耦合器或者互补性氧化半导体。在生产透镜及光学滤光片等光学元件过过程中,为达到较高的清洁度,一般在这些镀膜前或者镀膜后,都需经过清洗过程,目的是为了除去附着在这些元件表面的脏物、油渍及微粒等。而在清洗过程中,须将这些光学元件固定在治具上,并以适当的溶液及高纯度去粒子水进行清洗。

如图1所示,一般的清洗治具40利用三点固定方式固定待清洗的光学元件50。治具40中的三条清洗条402可在治具40上作适当距离的调整,利用嵌在清洗条402上的铁氟龙材料所形成的V槽404,分别在元件50的左、右、下方给于支撑。但是,铁氟龙所形成的V槽404的厚度及深度会阻挡水流,使光学元件50被夹持部分清洗不干净,再者在清洗过程中,若夹持光学元件50太松,光学元件50无法承受后期震荡而脱落,或者夹持太紧,光学元件50不易放入及不易取出,容易造成损坏。

发明内容

有鉴于此,有必要提供一种可有效辅助清洗光学元件的清洗治具。

一种清洗治具,包括盖体和本体,所述盖体至少开设两个第一通孔,所述本体至少开设有两个与第一通孔相对应的第二通孔,所述第二通孔具有一个第一开口与一个第二开口,所述盖体与本体配合时,第一开口较第二开口更接近盖体,相邻第二通孔互相连通。

与现有技术相比,清洗过程中,由于盖体与本体具有位置上对应的第一通孔及第二通孔,水流或其它清洗液不仅可以垂直方向上带走待清洗光学元件表面的脏物,又由于相邻第二通孔之间相互连通,可以使光学元件表面的脏物流向侧边,在平行光学元件的方向增加了光学元件表面的脏物被水或者其它清洗液带走的机会,提高光学元件清洗的效率与洁净度。

附图说明

图1是现有技术中一种清洗治具使用状态的示意图。

图2是本发明实施例清洗治具的截面示意图。

图3是本发明实施例清洗治具上盖的平面示意图。

图4是沿图3中IV-IV线之截面示意图。

图5是本发明实施例清洗治具本体的平面示意图。

图6是沿图5中VI-VI线之截面示意图。

图7是图2所示清洗治具使用状态的示意图。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明作进一步详细说明。

请参阅图2,本发明实施例提供一种治具10,该治具10包括一个盖体12及一个本体14。该治具10的材料为铝、铝合金、不锈钢、钛合金、铜和耐热工程塑料中的一种,并可以使用CNC(Computer Numerical Control,计算机数字控制)加工技术加工制作该治具10。

如图3及图4所示,盖体12开设有多个第一通孔122及四角分别设置有第一螺孔126。该多个第一通孔122之间相隔一定距离、呈矩阵形式排列在盖体12上。可选择地是,该第一通孔122以蜂窝状分布在盖体12上。

本实施例中,该多个第一通孔122为圆形孔。当然,该第一通孔122也可为方形孔、三角形孔或菱形孔等。

相邻第一通孔122之间通过第一槽124相连,从而使第一通孔122呈网状分布。

如图5及图6所示,本体14开设有与第一通孔122相对应的第二通孔142及与第一螺孔126相对应的第二螺孔146。

第二通孔142为圆形孔,其具有第一开口1421与第二开口1422,第一开口1421的孔径比第一通孔122的孔径及第二开口1422的孔径大。

相邻第一开口1421之间通过第二槽144相连,从而使第二通孔142成网状分布。

当盖体12与本体14配合使用时,第一开口1421较第二开口1422更接近盖体12。当盖体12与本体14配合时,该第一开口1421与第二开口1422为同心开设在本体14中,及第二通孔142与第一通孔122同心开设于治具10上。

盖体12与本体14通过第一螺孔126及第二螺孔146借由螺丝固定,从而固定盖体12与本体14的相对位置,以保证清洗过程顺利完成。

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