[发明专利]清洗治具

说明书

技术领域

本发明涉及一种夹持装置，尤其涉及一种用于清洗光学元件的清洗治具。

背景技术

随着多媒体技术的发展，照相机、数码照相机、手机照相镜头等成像器材越来越为广大消费者青睐，在人们对照相机、数码照相机、手机照相镜头追求小型化的同时，对其拍摄出物体的影像质量提出更高的要求，即希望拍摄物体的影像画面清晰，而物体的成像质量于很大程度上取决于相机内各光学仪器的优劣。

相机内成像模组一般包括透镜、光学滤光片及影像感测元件，如电荷耦合器Charge Coupled Device，简称CCD，或者补充性氧化金属半导体Complementary Metal-Oxide Semiconductor，简称CMOS。在生产透镜及光学滤光片等这些光学元件过程中，为达到较高的洁净度，一般在这些光学元件镀膜前及镀膜后，都需经过清洗过程，目的是为了去除附着于这些光学元件表面的脏污、油渍及微粒等。而在清洗过程中，需将这些光学元件固定于治具上，并以适当的溶液及高纯度去离子水进行清洗。

一般的光学元件清洗用的治具30，如图1所示，该治具30是利用三点固定的方式固定待清洗之光学元件40。治具30中的三个清洗条302是可在此治具30上做适当距离的调整，利用嵌在该清洗条302上铁氟龙(Teflon)材料所形成的V槽304，分别在元件的左、右、下方给予支撑。惟，铁氟龙所形成的V槽304的厚度及深度会阻挡水流，使光学元件40被夹持的部份清洗不干净，再者在清洗过程中，若夹持光学元件40太松，光学元件40无法承受后期超音波震荡而脱落。或夹持太紧，光学元件40不易放入及不易取出，容易造成损坏。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种可有效辅助清洗光学元件的清洗治具。

一种用于清洗光学元件的清洗治具，其中，包括：一个盖体及一个本体。该盖体至少开设一个第一通孔，该第一通孔呈漏斗状，该第一通孔具有一个第一开口及一个与第一开口相对且位于漏斗状第一通孔底部的第二开口。该本体至少开设有一个与第一通孔相对应的第二通孔，该第二通孔具有一个第三开口及一个与第三开口相对的第四开口，该第二通孔的孔壁至少具有一个位于第三开口与第四开口之间的环状突出支撑部，该支撑部与第四开口之间的第二通孔部分呈倒漏斗状，盖体与本体配合清洗时，第二开口与第三开口相接，使该支撑部与盖体间至少形成一个收容空间，该收容空间限定该光学元件，以防止该光学元件从治具中脱落。

所述的治具，在盖体与本体配合清洗时，可形成用于收容待清洗的光学元件的收容空间，光学元件在收容空间内有活动的空间，不会阻挡清洗液的流动，使光学元件在清洗过程中可全面接触清洗液，从而可被全面清洗，提高了清洗洁净度与良率。由于在清洗过程中，光学元件被限定在收容空间内，不会造成脱落；清洗完毕后，只需将盖体与本体分离，便可方便地取出光学元件。漏斗状的通孔设计，可增加清洗过程中清洗液的流动性，从而提高清洗液流带走光学元件表面脏污的能力，更有效地清洗光学元件。

附图说明

图1为现有技术的一种用于清洗光学元件的清洗治具的使用状态示意图。

图2为本发明第一实施例提供的一种用于清洗光学元件的清洗治具截面示意图。

图3为图2所示清洗治具的一种盖体的截面示意图。

图4为图3所示清洗治具的一种盖体的平面示意图。

图5为图3所示清洗治具的另一种盖体的平面示意图。

图6为图2所示清洗治具的一种本体的平面示意图。

图7为图6所示清洗治具的一种本体的截面示意图。

图8为图2所示清洗治具的另一种本体的平面示意图。

图9为图2所示清洗治具在清洗过程中的一个使用状态示意图。

图10为图2所示清洗治具在清洗过程中的另一个使用状态示意图。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明实施例作进一步的详细说明。

请参阅图2，本发明第一实施例提供一种用于清洗光学元件的清洗治具10，该治具10包括一个盖体100、一个本体200及多个用于收容光学元件的收容空间300。该治具10的材料为铝、铝合金、不锈钢、钛合金、铜和耐热工程塑料中的一种，并可以使用CNC(Computerized Numerical Control)加工技术加工制作该治具10。