[发明专利]形成含硅薄膜的方法无效
| 申请号： | 200610054925.X | 申请日： | 2006-02-20 |
| 公开（公告）号： | CN1824605A | 公开（公告）日： | 2006-08-30 |
| 发明（设计）人： | 贝野由利子;亀井隆広 | 申请（专利权）人： | 索尼株式会社 |
| 主分类号： | C01B33/02 | 分类号： | C01B33/02;C01B33/04 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 李玲 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 形成 薄膜 方法 | ||
【说明书】：
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