[发明专利]一种化学机械抛光单晶氧化镁基片用的抛光液无效
| 申请号： | 200610047159.4 | 申请日： | 2006-07-05 |
| 公开（公告）号： | CN1884410A | 公开（公告）日： | 2006-12-27 |
| 发明（设计）人： | 康仁科;王科;金洙吉;郭东明;董志刚;王宁会 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 大连理工大学专利中心 | 代理人： | 关慧贞 |
| 地址： | 116024辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 氧化镁 基片用 抛光 | ||
【说明书】：
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