[发明专利]含硅偶联剂的193nm光刻胶及其成膜树脂无效
| 申请号： | 200610039385.8 | 申请日： | 2006-03-27 |
| 公开（公告）号： | CN1828418A | 公开（公告）日： | 2006-09-06 |
| 发明（设计）人： | 冉瑞成;沈吉;孙小侠 | 申请（专利权）人： | 苏州华飞微电子材料有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/027 | 分类号： | G03F7/027;G03F7/004 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 马明渡 |
| 地址： | 215011江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 含硅偶联剂 193 nm 光刻 及其 树脂 | ||
【说明书】：
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