[发明专利]光刻机曝光成像装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种成像装置，尤其是一种光刻机曝光成像装置。

背景技术

现有的用于硅片曝光的光刻机透镜成像装置由一组共轴或者非共轴的透镜组成，其目的是为了将掩膜板上的图形用光学的方法投影成像到带有光敏感的记录介质(如光刻胶)的硅片上。这种透镜除了上述功能以外，没有任何的其他功能。这种成像装置的使用和标定需要通过在成像平台上用试验硅片曝光，或者在平台上设置光电像探测器对成像图像进行记录来完成。这两种方法都需要光刻机停止生产，浪费了生产时间。而且由于对光刻机的定期监控不可能及时全面的反映出在平时工作中出现的问题，如果在平时的操作中出现了偏差或者异常，将会导致由于无法及时反馈而造成的返工。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种光刻机曝光成像装置，能够在不停止光刻机工作的前提下，对光刻机成像效果进行采集，从而大大简化光刻机图像采集测量的步骤，提高了生产效率。

为解决上述技术问题，本发明光刻机曝光成像装置的技术方案是，在光刻机曝光的光路上设置有下分束板，所述下分束板与光路呈45°夹角，且所述下分束板的反射面朝向被光刻器件的一侧；在经过所述下分束板反射后与光刻光路相垂直的光路上设置有下反射镜，所述下反射镜的法线与所述下分束板的法线相垂直，且所述下反射镜的反射面朝向所述下分束板一侧；在经过所述下反射镜反射之后的光路上设置有图像探测器。

作为对本发明光刻机曝光成像装置的进一步改进是，在光刻机曝光的光路上设置有上分束板，所述上分束板与光路呈45°夹角，且所述上分束板的反射面朝向掩膜板一侧；在经过所述上分束板反射的光路上设置有上反射镜，所述上反射镜的法线与所述上分束板的法线相垂直，且所述上反射镜的反射面朝向所述上分束板一侧；在经过所述上反射镜反射之后的光路上设置有图像探测器。

本发明光刻机曝光成像装置，通过在成像光路上设置下分束板、下反射镜和上分束板、上反射镜以及图像探测器，能够方便的对光刻机的成像进行采集，大大的简化了图像采集测量的步骤，提高了生产效率。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明作详细的描述：

附图为本发明光刻机曝光成像装置的结构示意图。

图中附图标记为：1.主透镜；2.掩膜板及掩膜板平台；3.待光刻的硅片及硅片平台；4.下分束板；5.下反射镜；6.图像探测器；7.下快门；8.上分束板；9.上反射镜；10.上快门；11.投影透镜；12.辅助照明光源。

具体实施方式

本发明光刻机曝光成像装置，其结构如附图所示。

在光刻机曝光的光路上设置有下分束板4，所述下分束板4与光路呈45°夹角，且所述下分束板4的反射面朝向待光刻的硅片及硅片平台3的一侧；在经过所述下分束板4反射后与光刻光路相垂直的光路上设置有下反射镜5，所述下反射镜5的法线与所述下分束板4的法线相平行，且所述下反射镜5的反射面朝向所述下分束板4一侧；在经过所述下反射镜5反射之后的光路上设置有图像探测器。

在所述下分束板4与下反射镜5之间的光路上设置有下快门7。

所述下分束板4设置在光刻机的两个主透镜1之间。

在光刻机曝光的光路上还设置有上分束板8，所述上分束板8与光路呈45°夹角，且所述上分束板8的反射面朝向掩膜板2一侧；在经过所述上分束板8反射的光路上设置有上反射镜9，所述上反射镜9的法线与所述上分束板8的法线相垂直，且所述上反射镜9的反射面朝向所述上分束板8一侧；在经过所述上反射镜9反射之后的光路上设置有图像探测器。

在所述上分束板8与上反射镜9之间的光路上设置有上快门10。

所述上分束板8设置在光刻机的两个主透镜1之间。

所述上反射镜9为可透射光的反射镜，且经过所述上反射镜9反射的光路与经过所述下反射镜5反射的光路重合，所述在经过下反射镜5反射之后的光路上设置的图像探测器与所述在经过上反射镜9反射之后的光路上设置的图像探测器为同一图像探测器6。

与所述下分束板4相比，所述上分束板8的位置更靠近掩膜板。

所述光路在进入图像探测器之前的位置上设置有投影透镜11。

所述下反射镜5为可透射光的反射镜，在由所述下分束板4至下反射镜5的光路的延长线上设置有方向朝向所述下分束板的辅助照明光源12。

所述图象探测器安装在一个与掩膜板同步运动的平台上。

所述图像探测器所安装的平台为放置掩膜板的平台。