[发明专利]化学机械抛光设备的清洗装置和方法有效

专利信息
申请号: 200610029902.3 申请日: 2006-08-10
公开(公告)号: CN101121241A 公开(公告)日: 2008-02-13
发明(设计)人: 臧伟;蒋莉;李杰 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
主分类号: B24B29/02 分类号: B24B29/02;H01L21/304
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人: 逯长明
地址: 201203*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 化学 机械抛光 设备 清洗 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种化学机械抛光设备的清洗装置,其特征在于,清洗装置安装有刷子,刷子包括刷柄及安装在刷柄一端的刷毛,刷毛可以与化学机械抛光设备的转到清洗位置的抛光头相接触。

2.根据权利要求1所述清洗装置,其特征在于:所述的清洗装置设有托盘,所述的托盘通过连接杆安装在抛光设备的机器载盘上,所述的刷子的刷柄的另一端可拆卸安装在托盘上。

3.根据权利要求2所述清洗装置,其特征在于:所述的托盘设有不同的螺口安装位或刷柄设有不同的螺口安装位。

4.根据权利要求3所述清洗装置,其特征在于:所述的托盘和刷子采用螺栓穿过刷子的刷柄和托盘的螺口安装位进行连接。

5.根据权利要求2所述清洗装置,其特征在于:所述的托盘和连接杆以及刷柄采用PVC聚氯乙烯材料。

6.根据权利要求1所述清洗装置,其特征在于:所述的刷子的刷毛采用聚酰胺尼龙-6号或者尼龙-10号材料。

7.根据权利要求1或6所述清洗装置,其特征在于:所述的刷子的刷毛直径具有0.15-3mm范围,刷毛的高度为5-7cm。

8.一种采用权利要求1的化学机械抛光设备的清洗装置的清洗方法,其特征在于,采用去离子水清洗化学机械抛光设备的抛光头的同时采用可以与转到清洗位置的抛光头相接触的刷子进行擦洗,所述的刷子包括刷柄及安装在刷柄一端的刷毛。

9.根据要求8所述清洗方法,其特征在于:在采用去离子水和可以与化学机械抛光设备的转到清洗位置的抛光头相接触的刷子同时清洗抛光头步骤之前和之后均采用去离子水冲洗抛光头。

10.根据权利要求8所述清洗方法,其特征在于:所述的刷子的刷柄另一端可卸安装在托盘上,所述托盘通过连接杆安装在抛光设备的机器载盘上。

11.根据权利要求10所述清洗方法,其特征在于:所述的托盘设有不同的螺口安装位或刷柄有不同的螺口安装位。

12.根据权利要求10所述清洗方法,其特征在于:所述的托盘和刷子采用螺栓穿过刷子的刷柄和托盘的螺口安装位进行连接。

13.根据权利要求10所述清洗方法,其特征在于:所述的托盘和连接杆以及刷柄采用PVC聚氯乙烯材料。

14.根据权利要求8所述清洗方法,其特征在于:所述的刷子的刷毛采用聚酰胺尼龙-6号或者尼龙-10号材料。

15.根据权利要求8所述清洗方法,其特征在于:所述的刷子和所述的去离子水清洗抛光头的时候,抛光头的转速为10-30rpm。

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