[发明专利]CMOS图像传感器无效
| 申请号: | 200610026244.2 | 申请日: | 2006-04-29 |
| 公开(公告)号: | CN101064324A | 公开(公告)日: | 2007-10-31 |
| 发明(设计)人: | 孟庆;赵立新;董建民;徐春花 | 申请(专利权)人: | 格科微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;H01L23/52 |
| 代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁纪铁 |
| 地址: | 201203上海市浦东*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | cmos 图像传感器 | ||
技术领域
本发明涉及一种CMOS图像传感器。
背景技术
现阶段,在图像传感器领域,CCD(电荷耦合器件)和CIS(CMOS图像传感器)并存。它们各有优缺点,CCD信噪比高,图像品质好,但是耗电高,不易集成,制造成本高;CIS耗电少,易集成,成本低,但是图像品质不如CCD。随着CIS技术的长足进步,它的图像品质不断提高,渐渐接近了CCD,甚至有可能超越CCD。因此,CIS大有取代CCD的趋势。
在现有的CIS产品中,各集成电路制造厂商设计和工艺不尽相同,但是有一点是共同的,那就是金属层布线都不少于三层。对于感光区,从芯片表面到感光表面的距离比较大。这就使得入射光线必须经过一个较长的路程才能被感光区吸收,不仅使光线的衰减较大,而且使芯片的CRA(Chief Ray Angle,主光线与成像面法线方向的夹角)不能太大,妨碍了图像传感器的广泛应用。并且,三层金属使光罩数量较多,成本较高。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种CMOS图像传感器,它可有效减小入射光线的传输距离,降低成本。
为解决上述技术问题,本发明所述的CMOS图像传感器包括感光区和外围电路区,其中:所述外围电路区的元件或器件通过两层金属连线相连接。
本发明CMOS图像传感器采用的另外一种技术方案是,感光区和外围电路区的元件或器件都通过两层金属连线相连接。
由于采用两层金属布局布线,有效缩短了入射光线从芯片表面到感光表面的距离,提高了透光率,增加了CRA,降低了芯片成本。
附图说明
下面结合附图与具体实施方式对本发明作进一步详细的说明:
图1是CMOS图像传感器的模块图
图2是现有的CIS中三层金属布线的横截面图;
图3是本发明两层金属布线的横截面图。
具体实施方式
由图1可知,CIS图像传感器主要包括感光区和外围电路区。感光区是由象素阵列组成的,所以只要一个象素实现两层金属连线即可。外围的电路又分为几个模块,其中,最主要的是行解码模块、列解码模块、模数转换模块和数字模块。
本发明所述的CMOS图像传感器的一种实现方式是,所述外围电路区的元件或器件通过两层金属连线相连接。
本发明CMOS图像传感器的另外一种实现方式是,感光区和外围电路区的元件或器件都通过两层金属连线相连接。
对于感光区,本发明通过多晶走线,取代部分的金属走线,实现两层金属布线。对于外围电路区,行解码模块和列解码模块经过调整晶体管的位置和方向,再加上多晶走线,实现两层金属连线。模数转换模块本身对金属层数的要求不高,实现两层金属连线并不困难。数字模块通过增加标准单元之间的间距,提供了畅通的金属走线通道,也可实现两层金属连线。
图2所示为现有的CIS芯片中两个CMOS晶体管的横截面图。由图可知,它使用了三层金属布线。从芯片的表面到感光区表面距离很长。由于不少于三层的金属布线会使从芯片表面到感光表面的距离较大,限制了透光率和CRA,增加了制版成本。
图3所示是本发明的一个实施例。它通过调整版图,只使用了两层金属布线,减少了一层金属,也同时减少了一个介质层,大大减小了芯片表面到感光区表面的距离,缩减了制造成本。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的





