[发明专利]CMOS图像传感器无效

专利信息
申请号: 200610026244.2 申请日: 2006-04-29
公开(公告)号: CN101064324A 公开(公告)日: 2007-10-31
发明(设计)人: 孟庆;赵立新;董建民;徐春花 申请(专利权)人: 格科微电子(上海)有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L23/52
代理公司: 上海浦一知识产权代理有限公司 代理人: 丁纪铁
地址: 201203上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: cmos 图像传感器
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种CMOS图像传感器。

背景技术

现阶段,在图像传感器领域,CCD(电荷耦合器件)和CIS(CMOS图像传感器)并存。它们各有优缺点,CCD信噪比高,图像品质好,但是耗电高,不易集成,制造成本高;CIS耗电少,易集成,成本低,但是图像品质不如CCD。随着CIS技术的长足进步,它的图像品质不断提高,渐渐接近了CCD,甚至有可能超越CCD。因此,CIS大有取代CCD的趋势。

在现有的CIS产品中,各集成电路制造厂商设计和工艺不尽相同,但是有一点是共同的,那就是金属层布线都不少于三层。对于感光区,从芯片表面到感光表面的距离比较大。这就使得入射光线必须经过一个较长的路程才能被感光区吸收,不仅使光线的衰减较大,而且使芯片的CRA(Chief Ray Angle,主光线与成像面法线方向的夹角)不能太大,妨碍了图像传感器的广泛应用。并且,三层金属使光罩数量较多,成本较高。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种CMOS图像传感器,它可有效减小入射光线的传输距离,降低成本。

为解决上述技术问题,本发明所述的CMOS图像传感器包括感光区和外围电路区,其中:所述外围电路区的元件或器件通过两层金属连线相连接。

本发明CMOS图像传感器采用的另外一种技术方案是,感光区和外围电路区的元件或器件都通过两层金属连线相连接。

由于采用两层金属布局布线,有效缩短了入射光线从芯片表面到感光表面的距离,提高了透光率,增加了CRA,降低了芯片成本。

附图说明

下面结合附图与具体实施方式对本发明作进一步详细的说明:

图1是CMOS图像传感器的模块图

图2是现有的CIS中三层金属布线的横截面图;

图3是本发明两层金属布线的横截面图。

具体实施方式

由图1可知,CIS图像传感器主要包括感光区和外围电路区。感光区是由象素阵列组成的,所以只要一个象素实现两层金属连线即可。外围的电路又分为几个模块,其中,最主要的是行解码模块、列解码模块、模数转换模块和数字模块。

本发明所述的CMOS图像传感器的一种实现方式是,所述外围电路区的元件或器件通过两层金属连线相连接。

本发明CMOS图像传感器的另外一种实现方式是,感光区和外围电路区的元件或器件都通过两层金属连线相连接。

对于感光区,本发明通过多晶走线,取代部分的金属走线,实现两层金属布线。对于外围电路区,行解码模块和列解码模块经过调整晶体管的位置和方向,再加上多晶走线,实现两层金属连线。模数转换模块本身对金属层数的要求不高,实现两层金属连线并不困难。数字模块通过增加标准单元之间的间距,提供了畅通的金属走线通道,也可实现两层金属连线。

图2所示为现有的CIS芯片中两个CMOS晶体管的横截面图。由图可知,它使用了三层金属布线。从芯片的表面到感光区表面距离很长。由于不少于三层的金属布线会使从芯片表面到感光表面的距离较大,限制了透光率和CRA,增加了制版成本。

图3所示是本发明的一个实施例。它通过调整版图,只使用了两层金属布线,减少了一层金属,也同时减少了一个介质层,大大减小了芯片表面到感光区表面的距离,缩减了制造成本。

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