[发明专利]一种制作相变存储器用的湿法刻蚀液及其湿法刻蚀工艺有效
| 申请号： | 200610024251.9 | 申请日： | 2006-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN1815363A | 公开（公告）日： | 2006-08-09 |
| 发明（设计）人： | 宋志棠;刘奇斌;张楷亮;封松林;陈邦明 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/20;H01L21/027;G11C11/00;G11C13/00 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人： | 潘振甦 |
| 地址： | 200050*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 制作 相变 存储 器用 湿法 刻蚀 及其 工艺 | ||
【权利要求书】：
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