[发明专利]MOCVD法超低温制备高电导率、绒面未掺杂ZnO薄膜有效
| 申请号: | 200610016251.4 | 申请日: | 2006-10-24 |
| 公开(公告)号: | CN1945858A | 公开(公告)日: | 2007-04-11 |
| 发明(设计)人: | 耿新华;陈新亮;薛俊明;赵颖 | 申请(专利权)人: | 南开大学 |
| 主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/28;H01L21/285;H01L21/3205;C23C16/52;C23C16/40 |
| 代理公司: | 天津佳盟知识产权代理有限公司 | 代理人: | 侯力 |
| 地址: | 300071*** | 国省代码: | 天津;12 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | mocvd 超低温 制备 电导率 绒面未 掺杂 zno 薄膜 | ||
【说明书】:
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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