[发明专利]投影黑板及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200580051475.2 申请日: 2005-11-28
公开(公告)号: CN101258040A 公开(公告)日: 2008-09-03
发明(设计)人: 林和裕 申请(专利权)人: 杰富意建材株式会社
主分类号: B43L1/10 分类号: B43L1/10;G03B21/60;B43L1/04
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 孙秀武;李平英
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 投影 黑板 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及表面上形成搪瓷层的黑板(也称为粉笔板),特别涉及兼具优异的黑板功能和优异的屏幕功能的搪瓷制的黑板。本发明中所述的“优异的黑板功能”是指容易用粉笔书写文字、描绘图像等,观看清晰,并且具有使书写的文字、图像等容易抹去的功能。“优异的屏幕功能”是指在用投影仪、OHP等投影文字等影像时,具有文字等影像可鲜明地投影的功能。

背景技术

以往黑板(粉笔板)具有可用粉笔在表面上可抹去地书写文字、图像等的功能,用作各种说明、讲义、讲演等的辅助工具。因此,以往的黑板(粉笔板)如JIS S 6007所规定,为了容易地用粉笔(白粉笔)书写、抹去文字、图像等,使用使表面适当增粗,且为了使得用粉笔(白粉笔)书写的文字、图像等容易观看而使用暗色系的材料。

但是近年来,通常是利用幻灯机、OHP等各种投影机,将预先准备的资料投影在屏幕上,用指示棒等边指示边进行说明等。利用各种投影仪进行说明等时,必须准备投影用的屏幕和为了补充说明而可以用粉笔(白粉笔)进行书写和抹去文字等的黑板两者,其准备以及收拾过程中需很多麻烦。这是由于:如果用各种投影仪在以往的黑板上投影影像,则画质昏暗,不鲜明,因此无法将以往的黑板用作屏幕。

另一方面,作为以用各种投影仪投影影像为主要目的的反射屏幕,为了提高其反射特性而使用白色系或者高亮度色系的材料。因此,在屏幕上用粉笔(白粉笔)书写,则对比度低,文字、图像等的识别特性低,并且玻珠幕、白塑幕等通常的屏幕表面硬度低,用粉笔(白粉笔)书写、抹去,则屏幕有磨损问题。因此,例如日本特开平02-153080号公报、日本特开平04-229299号公报所示,屏幕即使是可用作用记号笔进行书写抹去的标记板,也无法用作粉笔板。

针对上述问题,例如日本实开昭57-183190号公报中提出了在釉料中混入蓝色系的染料,在钢板上形成亮度8-4的粗面搪瓷层的兼用作投影屏幕的搪瓷黑板。

发明内容

但是,根据日本实开昭57-183190号公报所记载的技术制造的黑板中,反射亮度低,影像不鲜明的倾向强,特别是使用亮度低的投影仪时,难以获得鲜明的影像等,无法充分满足作为屏幕最近所需求的特性。本发明有利地解决了上述以往技术的问题,其目的在于提供兼具优异的黑板功能和优异的屏幕功能的投影黑板及其制造方法,该投影黑板容易用粉笔(白粉笔)书写文字,描绘图像等且容易观看,粉笔文字的识别性优异,可容易地抹去用粉笔(白粉笔)书写的文字、图像等、粉笔文字的识别性,粉笔文字的书写·抹去性均优异,且可鲜明地投影影像,影像识别性优异。本发明的目标投影黑板是在金属基板的外表面具有至少一层搪瓷层的搪瓷制的黑板。

本发明人为实现上述课题,对影响搪瓷制的黑板的粉笔文字识别性、粉笔书写·抹去性和影像识别性的因素进行了深入研究。结果认识到:为了确保与以往的黑板具有同等或以上的粉笔文字识别性、粉笔文字书写·抹去性,黑板表面的搪瓷层制备为具有规定范围的亮度、规定范围的表面粗度,同时为了使影像识别性进一步提高而形成具有规定值或以上的峰值增益(ピ一クゲイン)的反射特性,这是关键。

还新发现:上述表面搪瓷层通过将所使用的釉料制成在通常的粉笔板釉料——透明无光釉料中至少配合适量的被覆氧化钛的颗粒、或进一步配合氧化钛釉料的釉料,将烧成条件调节至适当范围即可生成。由此认识到黑板可兼具优异的黑板功能和优异的屏幕功能。

本发明是根据上述认识进行进一步深入的研究而完成的。即,本发明的要旨如下。

(1).投影黑板,该投影黑板是在金属基板上具有至少一层搪瓷层的黑板,其特征在于:上述搪瓷层中,最外层的表面搪瓷层具有在JIS Z8721-1993中规定的亮度V为3.0-7.0的色调、在JIS B 0601-2001中规定的表面粗度Rz为5-25μm的表面特性、峰值增益为0.28或以上的反射特性。

(2).(1)的投影黑板,其特征在于:上述表面搪瓷层是使用搪瓷面釉形成的搪瓷层,所述搪瓷面釉是在透明无光釉料中至少配合被覆氧化钛的颗粒、或者进一步配合氧化钛釉料、或者进一步配合透明光泽釉料得到的。

(3).(1)或(2)的投影黑板,其特征在于:上述表面搪瓷层具有黑色系、绿色系、褐色系中的任意一种颜色。

(4).(1)-(3)中任一项的投影黑板,其特征在于:上述表面搪瓷层的JIS Z 8741-1997所规定的75度镜面光泽度Gs(75°)为1-30%。

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