[发明专利]开关电路和控制断路器的方法有效

专利信息
申请号: 200580050134.3 申请日: 2005-06-13
公开(公告)号: CN101199092A 公开(公告)日: 2008-06-11
发明(设计)人: 克里斯琴·奥珀曼;于尔根·鲁普 申请(专利权)人: 西门子公司
主分类号: H02H9/04 分类号: H02H9/04
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 张亮
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 开关电路 控制 断路器 方法
【权利要求书】:

1.开关电路,包括:至少一个用于通断负载(XL)的断路器(M1,M2);一个电阻器(RL);一个晶闸管(Th)或一个三端双向可控硅开关(TR);以及复数个构件(R1,Di,V3),用于根据所述断路器(M1,M2)上的电压降对所述晶闸管(Th)或所述三端双向可控硅开关(TR)进行触发;其中,所述电阻器(RL)与所述晶闸管(Th)或所述三端双向可控硅开关(TR)以跨接所述至少一个断路器(M1,M2)的连接方式彼此相连。

2.根据权利要求1所述的开关电路,其中,所述断路器(M1,M2)与控制逻辑电路(1)相连。

3.根据权利要求2所述的开关电路,其中,所述控制逻辑电路(1)建构成在短路情况下断开所述断路器(M1,M2)。

4.根据权利要求3所述的开关电路,其中,所述控制逻辑电路(1)具有测量构件,所述测量构件用于测定流过所述断路器(M1,M2)的短路电流。

5.根据权利要求1所述的开关电路,其中,所述断路器是功率半导体(M1,M2)。

6.根据权利要求5所述的开关电路,其中,所述功率半导体是场效应晶体管(M1,M2)。

7.根据权利要求5所述的开关电路,其中,所述功率半导体是绝缘栅双极晶体管(IGBT)。

8.根据权利要求1所述的开关电路,其中,所述电阻器(RL)与所述晶闸管(Th)或所述三端双向可控硅开关(TR)串联。

9.根据权利要求1所述的开关电路,其中,所述构件包括变阻器(V3),所述变阻器与所述晶闸管(Th)的栅极或所述三端双向可控硅开关(TR)的栅极相连。

10.根据权利要求1所述的开关电路,其中,所述构件包括一个双向触发二极管(Di),所述双向触发二极管与所述晶闸管(Th)的栅极或所述三端双向可控硅开关(TR)的栅极相连。

11.根据权利要求5所述的开关电路,其中,设置有至少两个功率半导体(M1,M2),特别是两个金属氧化物半导体场效应晶体管(Metal OxidSemiconductor Field Effect Transistor,MOSFET)或两个绝缘栅双极晶体管(Insulated Gate B ipolar Transistor,IGBT)。

12.根据权利要求11所述的开关电路,其中,每个所述功率半导体(M1,M2)的源极端子(Source)和漏极端子(Drain)之间均连接有一个续流二极管(DM1,DM2)。

13.根据权利要求1所述的开关电路,其中,两个二极管(D1,D2)与所述断路器(M1,M2)和/或所述晶闸管(Th)相连,且其相连方式使得当所述晶闸管(Th)处于被触发状态时,一个电流从其中一个二极管(D1,D2)上流过并至少部分地从所述晶闸管(Th)上流过。

14.根据权利要求1所述的开关电路,其中,所述电阻器(RL)的大小如此确定,使得在最大电流的情况下所述电阻器(RL)上的电压降小于至少一个所述断路器(M1,M2)的反向电压。

15.根据权利要求1所述的开关电路在低压设备的开关装置中的应用。

16.一种控制方法,用于控制至少一个用来通断负载(XL)的断路器(M1,M2),特别是功率半导体,其中,

通过所述至少一个断路器(M1,M2)检测短路电流,以及

将所述至少一个断路器(M1,M2)断开,从而通过所述断路器(M1,M2)上的电压降触发所述晶闸管(Th)或三端双向可控硅开关(TR),使得在所述短路电流下一次过零之前,被触发的晶闸管(Th)或被触发的三端双向可控硅开关(TR)跨接所述断路器(M1,M2)。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西门子公司,未经西门子公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200580050134.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top