[发明专利]荧光X射线分析装置和其所采用的程序

说明书

技术领域

本发明是涉及通过FP法对试样的组分、面积密度进行分析的荧光X射线分析装置和其所采用的程序。

背景技术

在过去，包括采用基本参数法(在下面称为FP法)分析试样的组分、面积密度的荧光X射线分析装置。在FP法中，根据假定的组分，即元素的浓度，计算从试样中的各元素产生的二次X射线的理论强度，按照该理论强度与通过检测机构测定的测定强度换算为理论强度值的换算测定强度一致的方式，逐次近似地修正计算上述假定的元素的浓度，计算试样的元素的浓度，即组分。在这里，每当计算上述理论强度时，采用对无限大的试样均匀地照射平行的一次X射线，观测由该一部分产生的二次X射线的计算模型。

但是，由于实际上，用于试样的尺寸与一次X射线的照射区域均是有限的，故一次X射线的入射角也伴随入射位置而不同，故从试样实际上产生的二次X射线的强度不与通过上述计算模型所产生的二次X射线的强度完全一致。将其称为几何效果，但是，如果不按照充分符合现实而添加几何效果的方式计算理论强度，则作为分析结果的试样的组分也不是十分正确的。

于是，Omega Data system公司发表了软件“UniQuant”，以便按照包括添加几何效果的方式计算理论强度。在该软件中，预先系统性地改变试样的厚度，求出深度方向的灵敏度曲线，采用该灵敏度曲线，计算理论强度。

但是，由于深度方向的灵敏度曲线伴随分析对象的二次X射线和试样的组分而变化，故为了将该已有技术适合地应用于多种试样，必须预先求出多条灵敏度曲线，这是不现实的。

发明内容

本发明是针对上述问题而解决的，本发明的目的在于针对通过FP法分析试样的组分、面积密度的荧光X射线分析装置和其所采用的程序，提供针对各种试样，可按照简便并且将几何效果充分符合现实而添加的方式计算理论强度，足够正确地进行定量分析的方案。

为了实现上述目的，本发明的第1方案涉及一种荧光X射线分析装置，其包括对试样照射一次X射线的X射线源；检测机构，该检测机构测定从该试样产生的二次X射线的强度；计算机构，该计算机构根据假定的组分，计算从试样中的各元素产生的二次X射线的理论强度，按照该理论强度与通过上述检测机构测定的测定强度换算为理论强度值的换算测定强度一致的方式，逐次近似地修正计算上述假定的组分，计算试样的组分，上述计算机构每当计算上述理论强度时，将试样的大小与照射到试样表面的各位置的一次X射线的强度和入射角作为参数，针对各光路模拟计算二次X射线的理论强度。

按照上述第1方案的装置，由于每当计算理论强度时，将试样的大小与照射到试样表面的各位置的一次X射线的强度和入射角作为参数，针对各光路模拟计算二次X射线的理论强度，故不必预先求出多条灵敏度曲线，针对各种试样，可按照简便并且将几何效果充分符合现实而添加的方式计算理论强度，足够正确地进行定量分析。另外，计算试样的组分所需要的整体的计算时间大于过去，但是，其在充分实用的范围内。

在第1方案的装置中，最好，上述计算机构针对多个上述假定的组分，同时计算上述理论强度。按照该优选的方案，全部的计算时间缩短。

另外，在第1方案的装置中，最好，上述计算机构采用预先求出的试样表面的一次X射线的入射角分布或散射角分布。由于对于试样表面的一次X射线的入射角分布、散射角分布，通常只要不改变X射线源，其便不改变，故在该优选的方案中，将其预先求出，用于理论强度的计算。按照该方式，由于理论强度的计算时间缩短，故全体的计算时间也缩短。另外，由于试样表面的一次X射线的入射角分布、散射角分布不针对每个试样而改变，故不必像上述过去的技术的灵敏度曲线那样，事先求出多条。

此外，在第1方案的装置中，最好，其包括设置刻度的试样容器，该刻度用于测定试样表面的高度。由于照射到上述参数的试样表面的各位置的一次X射线的强度和入射角伴随X射线源的试样表面的高度而变化，故试样表面的高度必须已知。在该优选的方案中，由于在试样容器中设置测定试样表面高度的刻度，故容易测定、调整试样表面的高度。

本发明的第2方案涉及一种程序，该程序为将上述第1方案的装置所具有的计算机作为上述计算机构而发挥作用的程序。同样通过本发明的第2方案的程序，也获得与上述第1方案的装置相同的作用效果。

附图说明

通过参考了附图的以下的最佳实施例的说明，应该能更加清楚地理解本发明。但是，实施例和附图只是单纯的图示和说明，并不应用于限定本发明的范围。本发明的范围通过前面的权利要求书确定。在附图中，多个附图中的同一部件编号表示同一部分。