[发明专利]抛光设备和抛光方法有效

专利信息
申请号: 200580048700.7 申请日: 2005-08-30
公开(公告)号: CN101128285A 公开(公告)日: 2008-02-20
发明(设计)人: 福田明;望月宣宏;广川一人 申请(专利权)人: 株式会社荏原制作所
主分类号: B24B37/04 分类号: B24B37/04;H01L21/304
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 蔡洪贵
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 抛光 设备 方法
【权利要求书】:

1.一种抛光设备,包括具有抛光部件和夹持部件的抛光部分,用于在所述抛光部件与由所述夹持部件夹持的被抛光物体之间施加压力,同时使所述抛光部件相对于所述被抛光物体移动,以抛光所述被抛光物体,所述抛光设备特征在于,它包括:

具有支撑表面的支撑部件,当在所述被抛光物体的抛光过程中所述抛光部件延伸超出所述被抛光物体时所述支撑部件起作用,用于支撑所述抛光部件超出部分的至少一部分;

用于调节所述支撑部件的支撑表面上的支撑压力的压力调节机构;以及

控制单元,所述控制单元用于参照基于所述被抛光物体的滚降量的信息控制所述压力调节机构,以使所述支撑压力达到期望压力。

2.如权利要求1所述的抛光设备,其特征在于,还包括用于测量基于滚降量的信息的测量单元。

3.如权利要求1或2所述的抛光设备,其特征在于,所述支撑表面整体具有相同的水平。

4.如权利要求1至3任一所述的抛光设备,其特征在于:

所述支撑部件包括沿所述被抛光物体的外围布置的多个支撑元件,其中每个所述支撑元件可以在第一位置与第二位置之间移动,所述第一位置在与被抛光物体的将被抛光表面平行的平面上、且沿着被抛光物体的外围,所述第二位置比所述第一位置与被抛光物体的中心更远地径向间隔。

5.如权利要求4所述的抛光设备,其特征在于,所述第一位置是在被抛光物体的外围边缘与所述支撑元件的支撑表面之间大体上没有间隙的位置。

6.如权利要求1至5任一所述的抛光设备,其特征在于,包括多个所述抛光部分,其中所述控制单元独立地操作设置在每个所述抛光部分中的所述压力调节机构,使得每个所述抛光部分中的支撑压力被独立地达到期望压力。

7.一种抛光设备,包括具有抛光部件和夹持部件的抛光部分,用于在所述抛光部件与由所述夹持部件夹持的被抛光物体之间施加压力,同时使所述抛光部件相对于所述被抛光物体移动,以抛光所述被抛光物体,所述抛光设备特征在于,它包括:

具有支撑表面的支撑部件,当在所述被抛光物体的抛光过程中所述抛光部件延伸超出所述被抛光物体时所述支撑部件起作用,用于支撑所述抛光部件超出部分的至少一部分;

用于调节所述支撑部件的支撑表面的高度的高度调节机构;

控制单元,所述控制单元用于参照基于所述被抛光物体的滚降量的信息控制所述高度调节机构,以使所述支撑表面的高度达到期望高度。

8.如权利要求7所述的抛光设备,其特征在于,包括用于获得基于滚降量的信息的测量单元。

9.如权利要求7或8所述的抛光设备,其特征在于,所述支撑表面整体具有相同的水平。

10.如权利要求7至9任一所述的抛光设备,其特征在于,所述支撑部件包括沿所述被抛光物体的外围布置的多个支撑元件,其中每个所述支撑元件可以在第一位置与第二位置之间移动,所述第一位置在与被抛光物体的将被抛光表面平行的平面上、且沿着被抛光物体的外围,所述第二位置比所述第一位置与被抛光物体的中心更远地径向间隔。

11.如权利要求10所述的抛光设备,其特征在于,所述第一位置是在被抛光物体的外围边缘与所述支撑元件的支撑表面之间大体上没有间隙的位置。

12.如权利要求7至11任一所述的抛光设备,其特征在于,包括多个所述抛光部分,其中所述控制单元独立地操作设置在每一所述抛光部分中的所述高度调节机构,使得每个所述抛光部分中的支撑表面的高度被独立地达到期望高度。

13.一种抛光方法,所述抛光方法通过在抛光部件与由夹持部件夹持的被抛光物体之间施加压力、同时使所述抛光部件相对于被抛光物体移动而抛光被抛光物体,并在抛光过程中,支撑所述抛光部件延伸超出所述被抛光物体的部分的至少一部分,所述方法特征在于,它包括步骤:

获取表示被抛光物体滚降量的信息;

基于包括所述信息的信息,计算用于支撑所述延伸部分的支撑压力的期望值;以及

基于计算的期望值调节所述支撑压力。

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