[发明专利]通过随机施涂触变性蚀刻剂进行选择性表面织构化

权利要求书

1.一种触变性化合物，由选自以下的组合物制成：包含王水的溶液；包含氯化铁的溶液；包含过氧化氢/HCl的溶液；以及包含氢氧化钾的溶液，所述溶液用一定量的热解法二氧化硅处理。

2.如权利要求1所述的触变性化合物，其特征在于，所述热解法二氧化硅以大约0.1-0.2克/毫升溶液的量提供给所述溶液。

3.如权利要求1所述的触变性化合物，其特征在于，所述化合物在25℃的粘度约为100,000-500,000cp。

4.一种用来处理基板表面的方法，该方法包括以下步骤：

提供具有表面的基板；

提供触变性蚀刻化合物；

将所述触变性蚀刻化合物施涂到基板表面上，使所述表面与所述化合物接触一段预先选定的时间；

从所述基板表面除去所述触变性化合物。

5.一种用来处理基板表面的方法，该方法包括以下步骤：

提供具有表面的基板；

提供触变性蚀刻化合物，所述化合物包含选自以下的溶液：包含王水的溶液；包含氯化铁的溶液；包含过氧化氢/HCl的溶液；包含氢氧化钾的溶液，所述溶液用一定量的热解法二氧化硅处理；

将所述触变性蚀刻化合物施涂到基板表面上，使所述表面与所述化合物接触一段预先选定的时间；

将所述触变性化合物从所述基板表面除去。

6.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述基板选自铝、不锈钢和钛。

7.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述触变性化合物包含约25％的HNO₃，约75％的HCl和约0.2克/毫升的热解法二氧化硅。

8.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述触变性化合物包含约82.5重量％的FeCl₃，10体积％的HCl和约0.2克/毫升的热解法二氧化硅。

9.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述触变性化合物在25℃的粘度约为100,000-500,000cp。

10.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述触变性化合物是通过选自以下的施涂方法施涂到基板表面上的：溅射喷涂和手工施涂技术。

11.如权利要求4所述的方法，其特征在于，通过用去离子水淋洗所述基板表面，将所述触变性化合物从基板表面除去。

12.一种按照预期增加基板表面糙度的方法，该方法包括以下步骤：

提供具有表面的基板；

提供触变性蚀刻化合物，所述化合物包含选自以下的溶液：包含王水的溶液，包含氯化铁的溶液，包含过氧化氢/HCl的溶液，以及包含氢氧化钾的溶液，所述溶液用一定量的热解法二氧化硅处理；

将所述触变性蚀刻化合物施涂到基板表面上，使所述基板表面与所述化合物接触一段预先选定的时间；

将所述触变性化合物从所述基板表面除去。

13.如权利要求12所述的方法，其特征在于，所述基板由选自以下的金属制造：铝、不锈钢和钛。

14.如权利要求12所述的方法，其特征在于，所述基板是选自以下的部件：溅射沉积护罩和化学气相沉积护罩。

15.具有用触变性蚀刻剂处理过的表面的金属部件，所述触变性蚀刻剂选自：包含王水的溶液、包含氯化铁的溶液、包含过氧化氢/HCl的溶液和包含氢氧化钾的溶液，所述溶液用一定量的热解法二氧化硅处理。

16.如权利要求15所述的金属部件，其特征在于，所述热解法二氧化硅的提供量约为0.1-0.2克/毫升溶液。

17.如权利要求14所述的金属部件，其特征在于，所述部件选自：溅射沉积护罩和化学气相沉积护罩。