[发明专利]通过MOCVD(金属有机化学汽相淀积)法制备ZnO透明导电膜的方法无效
申请号: | 200580045339.2 | 申请日: | 2005-12-27 |
公开(公告)号: | CN101094935A | 公开(公告)日: | 2007-12-26 |
发明(设计)人: | 栗谷川悟;田中良明 | 申请(专利权)人: | 昭和砚壳石油株式会社 |
主分类号: | C23C16/40 | 分类号: | C23C16/40;H01B13/00;H01L31/04 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 梁晓广;陆锦华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 通过 mocvd 金属 有机化学 汽相淀积 法制 zno 透明 导电 方法 | ||
1.一种制备ZnO透明导电膜的方法,其中将低纯度二乙基锌(Zn(C2H5)2)用作通过MOCVD(金属有机化学汽相淀积)法制备ZnO透明导电膜的原料,其中所述方法包括使用90-99.99%的二乙基锌作为原料和使用水蒸气(H2O)作为氧化剂,利用作为杂质以0.01-10%的量包含于所述二乙基锌中的三乙基铝(Al(C2H5)3)作为第III族元素添加剂,和加入二硼烷(B2H6)作为第III族元素添加剂,以使所述二乙基锌、所述水蒸气(H2O)、所述三乙基铝和所述二硼烷经历汽相反应,并从而通过MOCVD(金属有机化学汽相淀积)法制备ZnO透明导电膜。
2.一种制备ZnO透明导电膜的方法,其中将低纯度二乙基锌(Zn(C2H5)2)用作通过MOCVD(金属有机化学汽相淀积)法制备ZnO透明导电膜的原料,其中所述方法包括使用99.99-98%的二乙基锌作为原料和使用水蒸气(H2O)作为氧化剂,利用作为杂质以0.01-2%的量包含于所述二乙基锌中的三乙基铝(Al(C2H5)3)作为第III族元素添加剂,和加入少量的二硼烷(B2H6)作为第III族元素添加剂,以使所述二乙基锌、所述水蒸气(H2O)、所述三乙基铝和所述二硼烷经历汽相反应,并从而通过MOCVD(金属有机化学汽相淀积)法制备ZnO透明导电膜。
3.一种制备ZnO透明导电膜的方法,其中将低纯度二乙基锌(Zn(C2H5)2)用作通过MOCVD(金属有机化学汽相淀积)法制备ZnO透明导电膜的原料,其中所述方法包括使用90-98%的二乙基锌作为原料和使用水蒸气(H2O)作为氧化剂,和利用作为杂质以2-10%的量包含于所述二乙基锌中的三乙基铝(Al(C2H5)3)作为第III族元素添加剂,以在不加入二硼烷(B2H6)作为第(III族元素添加剂的情况下,使所述二乙基锌、所述水蒸汽(H2O)和所述三乙基铝经历汽相反应,并从而通过MOCVD(金属有机化学汽相淀积)法制备ZnO透明导电膜。
4.根据权利要求3的通过MOCVD(金属有机化学汽相淀积)法制备ZnO透明导电膜的方法,其中所述的沉积在基板温度为150-190℃和包含所述二乙基锌的载气对包含所述水蒸气(H2O)的载气的流速比为0.95-1.05的条件下进行。
5.一种制备ZnO透明导电膜的方法,其中将低纯度二乙基锌(Zn(C2H5)2)用作通过MOCVD(金属有机化学汽相淀积)法制备ZnO透明导电膜的原料,其中所述方法包括使用99.99-98%的二乙基锌作为原料和使用水蒸气(H2O)作为氧化剂,和利用作为杂质以0.01-2%的量包含于所述二乙基锌中的三乙基铝(Al(C2H5)3)作为第III族元素添加剂,以在不加入二硼烷(B2H6)作为第(III族元素添加剂的情况下,使所述二乙基锌、所述水蒸气(H2O)和所述三乙基铝经历汽相反应,并从而通过MOCVD(金属有机化学汽相淀积)法制备ZnO透明导电膜。
6.根据权利要求5的通过MOCVD(金属有机化学汽相淀积)法制备ZnO透明导电膜的方法,其中所述的沉积在基板温度为160-180℃和包含所述二乙基锌的载气对包含所述水蒸气(H2O)的载气的流速比为约1.0的条件下进行。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的