[发明专利]通过MOCVD(金属有机化学汽相淀积)法制备ZnO透明导电膜的方法无效

专利信息
申请号: 200580045339.2 申请日: 2005-12-27
公开(公告)号: CN101094935A 公开(公告)日: 2007-12-26
发明(设计)人: 栗谷川悟;田中良明 申请(专利权)人: 昭和砚壳石油株式会社
主分类号: C23C16/40 分类号: C23C16/40;H01B13/00;H01L31/04
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 梁晓广;陆锦华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 通过 mocvd 金属 有机化学 汽相淀积 法制 zno 透明 导电 方法
【权利要求书】:

1.一种制备ZnO透明导电膜的方法,其中将低纯度二乙基锌(Zn(C2H5)2)用作通过MOCVD(金属有机化学汽相淀积)法制备ZnO透明导电膜的原料,其中所述方法包括使用90-99.99%的二乙基锌作为原料和使用水蒸气(H2O)作为氧化剂,利用作为杂质以0.01-10%的量包含于所述二乙基锌中的三乙基铝(Al(C2H5)3)作为第III族元素添加剂,和加入二硼烷(B2H6)作为第III族元素添加剂,以使所述二乙基锌、所述水蒸气(H2O)、所述三乙基铝和所述二硼烷经历汽相反应,并从而通过MOCVD(金属有机化学汽相淀积)法制备ZnO透明导电膜。

2.一种制备ZnO透明导电膜的方法,其中将低纯度二乙基锌(Zn(C2H5)2)用作通过MOCVD(金属有机化学汽相淀积)法制备ZnO透明导电膜的原料,其中所述方法包括使用99.99-98%的二乙基锌作为原料和使用水蒸气(H2O)作为氧化剂,利用作为杂质以0.01-2%的量包含于所述二乙基锌中的三乙基铝(Al(C2H5)3)作为第III族元素添加剂,和加入少量的二硼烷(B2H6)作为第III族元素添加剂,以使所述二乙基锌、所述水蒸气(H2O)、所述三乙基铝和所述二硼烷经历汽相反应,并从而通过MOCVD(金属有机化学汽相淀积)法制备ZnO透明导电膜。

3.一种制备ZnO透明导电膜的方法,其中将低纯度二乙基锌(Zn(C2H5)2)用作通过MOCVD(金属有机化学汽相淀积)法制备ZnO透明导电膜的原料,其中所述方法包括使用90-98%的二乙基锌作为原料和使用水蒸气(H2O)作为氧化剂,和利用作为杂质以2-10%的量包含于所述二乙基锌中的三乙基铝(Al(C2H5)3)作为第III族元素添加剂,以在不加入二硼烷(B2H6)作为第(III族元素添加剂的情况下,使所述二乙基锌、所述水蒸汽(H2O)和所述三乙基铝经历汽相反应,并从而通过MOCVD(金属有机化学汽相淀积)法制备ZnO透明导电膜。

4.根据权利要求3的通过MOCVD(金属有机化学汽相淀积)法制备ZnO透明导电膜的方法,其中所述的沉积在基板温度为150-190℃和包含所述二乙基锌的载气对包含所述水蒸气(H2O)的载气的流速比为0.95-1.05的条件下进行。

5.一种制备ZnO透明导电膜的方法,其中将低纯度二乙基锌(Zn(C2H5)2)用作通过MOCVD(金属有机化学汽相淀积)法制备ZnO透明导电膜的原料,其中所述方法包括使用99.99-98%的二乙基锌作为原料和使用水蒸气(H2O)作为氧化剂,和利用作为杂质以0.01-2%的量包含于所述二乙基锌中的三乙基铝(Al(C2H5)3)作为第III族元素添加剂,以在不加入二硼烷(B2H6)作为第(III族元素添加剂的情况下,使所述二乙基锌、所述水蒸气(H2O)和所述三乙基铝经历汽相反应,并从而通过MOCVD(金属有机化学汽相淀积)法制备ZnO透明导电膜。

6.根据权利要求5的通过MOCVD(金属有机化学汽相淀积)法制备ZnO透明导电膜的方法,其中所述的沉积在基板温度为160-180℃和包含所述二乙基锌的载气对包含所述水蒸气(H2O)的载气的流速比为约1.0的条件下进行。

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