[发明专利]磁性石榴石单晶及使用其的光学元件和单晶的制造方法有效
| 申请号: | 200580039676.0 | 申请日: | 2005-11-17 |
| 公开(公告)号: | CN101061263A | 公开(公告)日: | 2007-10-24 |
| 发明(设计)人: | 大井户敦 | 申请(专利权)人: | TDK株式会社 |
| 主分类号: | C30B29/28 | 分类号: | C30B29/28;C30B19/00;G02F1/09 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 孙秀武;李平英 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 磁性 石榴石 使用 光学 元件 制造 方法 | ||
1.一种磁性石榴石单晶,其特征为,
该磁性石榴石单晶是通过液相外延生长法生长得到的,
用化学式BixNayPbzM13-x-y-zFe5-wM2wO12表示,
式中的M1表示从Y、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu中选出的至少1种以上元素,M2表示从Ga、Al、In、Ti、Ge、Si、Pt中选出的至少1种以上元素,0.5<x≤2.0、0<y≤0.8、0≤z<0.01、0.19≤3-x-y-z<2.5、0≤w≤1.6。
2.如权利要求1所述的磁性石榴石单晶,其中,上述y为0<y≤0.05。
3.由权利要求1或2所述的磁性石榴石单晶形成的光学元件。
4.一种磁性石榴石单晶的制造方法,其特征为,生成含Na的熔融液,使用上述熔融液通过液相外延生长法生长磁性石榴石单晶。
5.一种石榴石单晶的制造方法,其特征为,生成含有B、Na及Bi、而且Na的配合率ymol%与Bi的配合率zmol%满足0<y/(y+z)≤0.41的溶液,使用上述溶液生长石榴石单晶。
6.一种石榴石单晶的制造方法,其特征为,生成含有B、Na及Bi、并且B的配合率xmol%、Na的配合率ymol%与Bi的配合率zmol%满足0<y/(y+z)≤0.0143x+0.24的溶液,使用上述溶液生长石榴石单晶。
7.如权利要求6所述的石榴石单晶的制造方法,其中,上述配合率x为2.0mol%以上、12.0mol%以下。
8.一种石榴石单晶的制造方法,其特征为,生成含有B、Na及Bi、并且B的配合率x为2.0mol%以上12.0mol%以下的溶液,使用上述溶液生长石榴石单晶。
9.一种磁性石榴石单晶的制造方法,其特征为,在含Na、Bi及B的溶剂中以9.0mol%以上25.5mol%以下的配合率溶解Fe、Ga及Al中包含Fe的至少一种元素,生成溶液,使用上述溶液生长磁性石榴石单晶。
10.一种磁性石榴石单晶的制造方法,其特征为,在含Na、Bi及B的溶剂中溶解Fe、Ga及Al中包含Fe的至少一种元素,生成溶液,使用上述溶液在600℃以上900℃以下的生长温度下生长磁性石榴石单晶。
11.一种磁性石榴石单晶的制造方法,其特征为,在含Na、Bi及B的溶剂中以配合率xmol%溶解Fe、Ga及Al中包含Fe的至少一种元素,生成溶液,使用上述溶液,在满足436+18.2x≤y≤555+18.2x的生长温度y℃下生长磁性石榴石单晶。
12.如权利要求11所述的磁性石榴石单晶的制造方法,其特征为,上述配合率x在9.0mol%以上,上述生长温度y在900℃以下。
13.如权利要求9~12中的任一项所述的磁性石榴石单晶的制造方法,其特征为,上述溶液是在Au制的坩埚内生成的。
14.一种权利要求1所述的磁性石榴石单晶的制造方法,其特征为,将含Na的材料填充到Au制的坩埚内,熔化上述材料生成熔融液,使用上述熔融液生长单晶。
15.如权利要求14所述的单晶的制造方法,其特征为,上述单晶在大气压中生长。
16.如权利要求14或15所述的单晶的制造方法,其特征为,上述材料还含有B。
17.如权利要求14~16中的任一项所述的单晶的制造方法,其特征为,上述单晶是稀土类铁石榴石单晶。
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